[發(fā)明專利]一種用于調(diào)節(jié)環(huán)形拋光機(jī)瀝青盤表面面形的裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910496610.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110181359B | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃金勇;謝磊;高胥華;胡慶;王剛;趙恒;蔡超;何祥;馬平;鄢定堯;張?jiān)品?/a> | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 成都精密光學(xué)工程研究中心 |
| 主分類號(hào): | B24B13/00 | 分類號(hào): | B24B13/00;B24B13/01;B24B53/02 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 李宏志 |
| 地址: | 610000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 調(diào)節(jié) 環(huán)形 拋光機(jī) 瀝青 表面 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種用于調(diào)節(jié)環(huán)形拋光機(jī)瀝青盤表面面形的裝置,包括鑄鐵盤,其固定設(shè)置于環(huán)形拋光機(jī)的大理石盤上方,所述鑄鐵盤的頂部澆注有瀝青拋光膜層,待加工光學(xué)元件和校正盤均設(shè)置于所述瀝青拋光膜層上;熱電阻溫度傳感器,其設(shè)置于所述瀝青拋光膜層外側(cè);環(huán)形水管,其置于所述鑄鐵盤內(nèi),且其進(jìn)水端和出水端分別位于所述鑄鐵盤的上下方;恒溫供水系統(tǒng),其包括相連的水箱及恒定水溫控制系統(tǒng),所述水箱外還設(shè)置有循環(huán)水泵,所述恒定水溫控制系統(tǒng)與所述熱電阻溫度傳感器相連;所述環(huán)形水管的所述進(jìn)水端與所述循環(huán)水泵相連,所述出水端與所述水箱相連。上述裝置可實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)瀝青拋光盤盤面面形,從而實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件全口徑面形的高精度加工。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)加工技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種用于調(diào)節(jié)環(huán)形拋光機(jī)瀝青盤表面面形的裝置。
背景技術(shù)
隨著高功率激光裝置建設(shè)水平的提高,對(duì)平面光學(xué)元件提出了全空間頻段指標(biāo)同步控制的加工要求,同時(shí)對(duì)元件加工效率提出了高要求。環(huán)形拋光通常采用瀝青作為拋光材料,通過動(dòng)態(tài)調(diào)整拋光盤表面形貌并基于面形“復(fù)制效應(yīng)”,實(shí)現(xiàn)元件面形的高精度加工。作為一種全口徑拋光技術(shù),由于其具有良好的中高頻面形誤差修正能力,成為了大口徑平面光學(xué)元件全頻段指標(biāo)高精度加工的主流技術(shù)。
環(huán)形拋光加工精度與環(huán)境溫度以及瀝青的拋光特性息息相關(guān)。環(huán)境溫度過高,會(huì)導(dǎo)致瀝青流動(dòng)性過大(瀝青軟化),瀝青拋光盤無法實(shí)現(xiàn)拋光作用;環(huán)境溫度過低,會(huì)導(dǎo)致瀝青流動(dòng)性過小(瀝青硬化)從而無法實(shí)時(shí)調(diào)整瀝青拋光盤表面面形,拋光效率低下。
目前,環(huán)形拋光過程屬于離線半閉環(huán)控制系統(tǒng),由于缺乏溫度定量實(shí)時(shí)反饋及控制手段,對(duì)瀝青拋光盤表面面形的判斷及調(diào)整,在很大程度上主要依賴于操作工人的加工經(jīng)驗(yàn),加工確定性及加工穩(wěn)定性較差,加工效率低下。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種用于調(diào)節(jié)環(huán)形拋光機(jī)瀝青盤表面面形的裝置,包括:
鑄鐵盤,其固定設(shè)置于環(huán)形拋光機(jī)的大理石盤上方,所述鑄鐵盤的頂部澆注有瀝青拋光膜層,待加工光學(xué)元件和校正盤均設(shè)置于所述瀝青拋光膜層上;
熱電阻溫度傳感器,其設(shè)置于所述瀝青拋光膜層外側(cè);
環(huán)形水管,其置于所述鑄鐵盤內(nèi),且其進(jìn)水端和出水端分別位于所述鑄鐵盤的上下方;
恒溫供水系統(tǒng),其包括相連的水箱及恒定水溫控制系統(tǒng),所述水箱外還設(shè)置有循環(huán)水泵,所述恒定水溫控制系統(tǒng)與所述熱電阻溫度傳感器相連;所述環(huán)形水管的所述進(jìn)水端與所述循環(huán)水泵相連,所述出水端與所述水箱相連;所述鑄鐵盤為上下組合結(jié)構(gòu),其包括固定相接的頂蓋和底座,所述頂蓋與所述底座的中心位置均開設(shè)有通孔,所述底座的底面上開設(shè)有螺旋形凹槽,所述環(huán)形水管通過所述通孔安裝入所述螺旋形凹槽內(nèi)。
優(yōu)選地,所述頂蓋與所述底座通過沉頭螺釘相連接,所述底座與所述大理石盤也通過沉頭螺釘相連接。
優(yōu)選地,所述鑄鐵盤中心的所述通孔直徑為25mm,所述鑄鐵盤外徑與所述大理石盤的直徑相同,所述底座高度為30mm,所述頂蓋厚度為20mm,所述螺旋形凹槽寬度為25mm。
優(yōu)選地,所述環(huán)形水管內(nèi)徑為19.05mm,壁厚為1mm,材料為銅。
優(yōu)選地,所述循環(huán)水泵額定流量為0.1L/min~1L/min。
優(yōu)選地,所述恒定水溫控制系統(tǒng)溫度調(diào)節(jié)范圍為16℃~24℃,溫度控制精度為0.1℃。
優(yōu)選地,所述水箱容積為100L~200L。
優(yōu)選地,包括三個(gè)所述熱電阻溫度傳感器,其均勻分布于距離瀝青拋光膜層上表面6mm~10mm的外側(cè)。
上述用于調(diào)節(jié)環(huán)形拋光機(jī)瀝青盤表面面形的裝置的工作原理如下:
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