[發(fā)明專(zhuān)利]一種工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910483330.3
• 申請(qǐng)日: 2019-06-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110265279B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 長(zhǎng)沙埃福思科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J37/18
• 分類(lèi)號(hào): H01J37/18;H01J37/20;H01J37/30
• 代理公司: 長(zhǎng)沙朕揚(yáng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43213
• 代理人: 楊斌

1.一種工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)，包括通過(guò)插板閥（3）可相互連通的主真空室（1）和副真空室（2），所述主真空室（1）中設(shè)有離子源（4），所述副真空室（2）中設(shè)有帶動(dòng)工件（8）運(yùn)動(dòng)的工件運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（6），其特征在于：所述副真空室（2）位于所述主真空室（1）的側(cè)向，且所述插板閥（3）所在平面M與所述離子源（4）的照射方向平行，待加工的工件（8）在所述工件運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（6）上設(shè)定的拋光面N與所述離子源（4）的照射方向垂直，且所述工件運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（6）的運(yùn)動(dòng)方向與所述離子源（4）的照射方向垂直；所述工件（8）立式放置，側(cè)面正對(duì)所述插板閥（3）；

所述插板閥（3）在主真空室（1）室壁上的安裝占用寬度J與所述副真空室（2）的寬度K相當(dāng)，且前述寬度大小主要由工件（8）的厚度大小決定；所述插板閥（3）在主真空室（1）室壁上的安裝占用寬度J僅覆蓋主真空室（1）室壁的部分區(qū)域；該主真空室（1）室壁上未被插板閥（3）占用的區(qū)域設(shè)有視窗（9）；用于啟閉所述插板閥（3）的頭部則伸向與視窗（9）相反的外側(cè)區(qū)域；

所述主真空室（1）中設(shè)有用于帶動(dòng)離子源（4）運(yùn)動(dòng)的離子源運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（5），所述離子源運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（5）包括直線運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)和轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)，所述直線運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)包括可在水平面作直線運(yùn)動(dòng)的Z向運(yùn)動(dòng)單元（51）和X向運(yùn)動(dòng)單元（52）以及可沿豎直方向運(yùn)動(dòng)的Y向運(yùn)動(dòng)單元（53），所述Z向運(yùn)動(dòng)單元（51）的運(yùn)動(dòng)方向與工件運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（6）的運(yùn)動(dòng)方向垂直，所述X向運(yùn)動(dòng)單元（52）的運(yùn)動(dòng)方向與工件運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（6）的運(yùn)動(dòng)方向平行，所述轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)包括可繞X向轉(zhuǎn)動(dòng)的A向運(yùn)動(dòng)單元（54）和可繞Y向轉(zhuǎn)動(dòng)的B向運(yùn)動(dòng)單元（55）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)，其特征在于：所述工件運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（6）的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)為絲桿傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、推桿傳動(dòng)機(jī)構(gòu)或者摩擦傳動(dòng)機(jī)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)，其特征在于：所述工件運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)（6）包括設(shè)在副真空室（2）中的副真空室導(dǎo)軌（61）、設(shè)在主真空室（1）中的主真空室導(dǎo)軌（62）、可沿副真空室導(dǎo)軌（61）和主真空室導(dǎo)軌（62）移動(dòng)的溜板（63）以及用于驅(qū)動(dòng)溜板（63）移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置（66），所述溜板（63）通過(guò)所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與驅(qū)動(dòng)裝置（66）相連，所述主真空室導(dǎo)軌（62）設(shè)在副真空室導(dǎo)軌（61）延伸的方向上，所述待加工的工件（8）通過(guò)夾具（7）安裝在溜板（63）上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)，其特征在于：所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括多個(gè)摩擦軸（64），所述摩擦軸（64）設(shè)置在所述副真空室導(dǎo)軌（61）和主真空室導(dǎo)軌（62）上，所述摩擦軸（64）沿導(dǎo)軌延伸方向布置且與導(dǎo)軌垂直，所述摩擦軸（64）與所述驅(qū)動(dòng)裝置（66）相連，所述溜板（63）的底部與摩擦軸（64）接觸，所述溜板（63）的長(zhǎng)度大于任意相鄰兩個(gè)摩擦軸（64）的間距。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)，其特征在于：所述摩擦軸（64）等間距布置，所述溜板（63）的長(zhǎng)度大于兩倍摩擦軸（64）間距。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)，其特征在于：所述驅(qū)動(dòng)裝置（66）設(shè)有多個(gè)，且多個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置（66）間隔布設(shè)在主真空室（1）和副真空室（2）同一側(cè)的側(cè)壁（10）上，該側(cè)壁（10）與插板閥（3）所在平面M相垂直，且所述副真空室導(dǎo)軌（61）和主真空室導(dǎo)軌（62）盡量靠近前述側(cè)壁（10）。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的工件側(cè)進(jìn)式雙真空室離子束加工系統(tǒng)，所述驅(qū)動(dòng)裝置（66）為旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)裝置（66）設(shè)置在腔室外，所述摩擦軸（64）通過(guò)設(shè)置在室壁上的磁流體密封傳動(dòng)體（65）與所述驅(qū)動(dòng)裝置（66）相連。