[發明專利]一種金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑及其制備方法在審
| 申請號: | 201910479323.6 | 申請日: | 2019-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN110029341A | 公開(公告)日: | 2019-07-19 |
| 發明(設計)人: | 段勇旭;車國勇 | 申請(專利權)人: | 深圳市豪龍新材料技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C22/60 | 分類號: | C23C22/60 |
| 代理公司: | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人: | 袁燕清 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 免水洗 硅烷處理劑 金屬涂裝 前處理 硅烷薄膜 金屬表面 制備 附著力 金屬表面處理技術 水溶性穩定劑 致密 硅烷偶聯劑 耐腐蝕性能 成膜效率 金屬基體 耐蝕性能 透明液體 無懸浮物 處理劑 調整劑 防腐蝕 有機胺 質量份 重金屬 螯合劑 噴淋 無磷 沉渣 浸泡 金屬 | ||
1.一種金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的處理劑包括有如下質量的組分:硅烷偶聯劑5%-20%、有機胺調整劑2%-10%、醇0.5%-5%、水溶性穩定劑0.5%-5%、螯合劑0.1%-0.5%、助劑0.1%-2%、余量為水。
2.如權利要求1所述的金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的硅烷偶聯劑為低分子量水溶性硅烷。
3.如權利要求2所述的金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的低分子量水溶性硅烷為四乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷中的一種以上。
4.如權利要求1所述的金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的有機胺調整劑為硅烷水解促進劑。
5.如權利要求4所述的金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的硅烷水解促進劑為一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、間硝基苯胺、苯胺中的一種以上。
6.如權利要求1所述的金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的水溶性穩定劑包括有聚乙二醇,聚丙二醇,甲基纖維素及其鈉鹽中的一種以上。
7.如權利要求1所述的金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的助劑選自苯并三氮唑、硫脲、硝基胍中的一種以上。
8.如權利要求1所述的金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑,其特征在于,所述的螯合劑選自羥乙基乙二胺三乙酸、乙二胺四乙酸、葡萄糖酸鈉、氨基三乙酸、二亞乙基三胺五乙酸及其鹽等中的一種以上。
9.如權利要求1-8任一權利要求所述的一種金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑的制備方法,其特征在于,制備方法步驟為:在反應釜中加入適量的水,用有機胺調整劑調節水的pH值至9-10,然后繼續添加入權利要求1中配方量的水溶性穩定劑,溶解或混合均勻后,將配方量的硅烷偶聯劑和醇的混合物緩慢添加入水中,并不斷攪拌,待溶液澄清后再添加入螯合劑和助劑,并攪拌均勻,最后補足余量水。
10.如權利要求1-8任一權利要求所述的一種金屬涂裝前處理的免水洗硅烷處理劑的應用,其特征在于,所述的應用步驟為:
對金屬表面進行前處理后,再采用噴淋或浸泡方式進行硅烷處理,然后烘干;其中硅烷處理劑質量份的1%-5%,噴淋時間0.5-5min,pH值8-10,溫度20-40℃,烘干溫度100-150℃。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C22-00 表面與反應液反應、覆層中留存表面材料反應產物的金屬材料表面化學處理,例如轉化層、金屬的鈍化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔體
C23C22-73 .以工藝為特征的
C23C22-78 .待鍍覆材料的預處理





