[發明專利]一種聚吡咯多孔中空納米微球及其制備方法和應用在審
| 申請號： | 201910449588.1 | 申請日： | 2019-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN111974322A | 公開（公告）日： | 2020-11-24 |
| 發明（設計）人： | 丁曉莉;王鑫蘭;李曉峰;趙紅永;曹倩倩;張玉忠 | 申請（專利權）人： | 天津工業大學 |
| 主分類號： | B01J13/14 | 分類號： | B01J13/14;C08G73/06;B01D53/22;B01D71/68;B01D69/12;B01D61/00 |
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| 地址： | 300387 *** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 吡咯 多孔 中空 納米 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種聚吡咯多孔中空納米微球的制備方法，其特征在于按以下步驟制備：
1)將二氧化硅微球(尺寸為10-100nm)與一定量的水混合；
2)將一定量的吡咯、醋酸鈉溶于一定量的水，加入到步驟1)中配置的混合液中，超聲使其混合均勻，降溫至4℃以下；
3)將一定量的氯化鐵溶于水，加入到步驟2)配好的混合液中，在4℃下持續攪拌反應一段時間，洗滌，離心，將所得產物用HF浸泡一段時間，離心，洗滌得到最終產物。
2.照權利要求1所述的聚吡咯多孔中空納米微球的制備方法，其特征在于：氯化鐵濃度為0.1-0.5mol/L。
3.按照權利要求1所述的聚吡咯多孔中空納米微球的制備方法，其特征在于：反應時間為10-15小時。
4.按照權利要求1所述的聚吡咯多孔中空納米微球的制備方法，其特征在于：HF的濃度為3-8％(質量分數)。
5.按照權利要求1所述的聚吡咯多孔中空納米微球的制備方法制備的聚吡咯多孔中空納米微球，其特征在于：微球的中空結構的尺寸可由二氧化硅模板的尺寸調控，殼層厚度可由吡咯的濃度控制。
6.按照權利要求1-5所制備的一種聚吡咯多孔中空納米微球，其特征在于，具有中空結構，殼層材料為聚吡咯，且殼層具有納米級的孔。
7.按照權利要求1～6所述的聚吡咯多孔中空納米微球的應用，其特征在于，所述的聚吡咯多孔中空納米微球在分離膜制備中應用。具體來說，聚吡咯多孔中空納米微球作為填料與其他聚合物膜材料共混，制備分離膜，可用于氣體膜分離、納濾、滲透汽化。
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