[發明專利]一種氧化鋁漿料及其制備方法

有效

• 申請號: 201910444972.2
• 申請日: 2019-05-27
• 公開（公告）號: CN110055538B
• 公開（公告）日: 2022-01-25
• 發明（設計）人: 趙月昌;高瑋;胡蝶;陳曦;楊筱瓊
• 申請（專利權）人: 方復（上海）新材料科技有限公司
• 主分類號: C23F3/00
• 分類號: C23F3/00
• 代理公司: 北京匯信合知識產權代理有限公司 11335
• 代理人: 孫民興

本發明公開了一種氧化鋁漿料，包括每百份包括如下重量份的組分：氧化鋁微粉5－30份，加速劑1－5份，分散劑0.1－1份，抗板結劑0.1－1份，水為余量。采用上述原料制得的具有均一的粒徑分布，并且拋光時具有高的研磨拋光速度和拋光精度。本發明提供的氧化鋁漿料的制備方法中，通過磁性分離器控制氧化鋁漿液的磁性物質含量，在拋光過程中能抑制傷痕的產生，獲得精度更高的研磨面，具有拋光速率快、拋光精度高、拋光制品的清洗性能優異等特點。本發明適用于鋁合金、不銹鋼等金屬及樹脂鏡片的表面拋光加工。

技術領域

本發明屬于材料領域，涉及一種氧化鋁漿料及其制備方法，特別是涉及一種用于鋁合金、不銹鋼等金屬表面拋光加工用的氧化鋁漿料及其制備方法。

背景技術

近幾年，以不銹鋼、鋁合金為代表的金屬在手機外殼、電腦外殼及邊框等電子產品領域中的應用越來越多，在這些領域中，金屬毛坯的生成一般都是先經過數字控制機床中的刀具切割成初具形狀的半成品，然后再經過幾步表面研磨拋光等加工工藝后達到鏡面效果。而經過刀具切割的金屬表面，存在大量刀紋，即宏觀劃痕。因此，在實際應用中，必須對其進行表面處理，改善其表面狀態。以鋁合金為例，傳統的表面拋光工藝為三種：即機械拋光、化學拋光和電化學拋光。①機械拋光是靠切削或使材料表面產生塑性變形去掉被加工面的凸部而得到平滑面。常見的機械拋光方式有機械輪拋光、皮帶拋光、滾筒拋光、振動拋光、超級精研拋光等。機械拋光雖然可以除去鋁表面油污，氧化皮及毛刺等，但對形狀復雜的零件難以拋光，而且，經過機械拋光的鋁件容易發生晶界腐蝕或應力腐蝕破裂。②化學拋光可分為酸性拋光和堿性拋光。常見的酸性拋光液有磷酸－硝酸，磷酸－硫酸－硝酸等體系。“三酸”拋光體系在拋光過程中產生大量的氮氧化物氣體即黃色煙霧。該氣體毒性大，對人體具有強烈的危害，同時嚴重地污染環境。堿性化學拋光是利用鋁及鋁合金件在堿性溶液中的選擇性自溶解作用來整平和拋光制件表面，以提高其表面光潔度的化學方法。③電化學拋光是一種使用電解液及直流電源的金屬表面處理方法，與電鍍類似，所不同的是電化學拋光被加工零件作為陽極，與電鍍正好相反。電解槽通電后，在被拋光金屬表面上形成一層鈍化膜，金屬離子通過這層膜擴散，表面上的顯微(宏觀)凸點及粗糙處的高點和毛刺區的電流密度比表面其余部分大，并以較快的速度溶解，從而達到整平和去毛刺的目的。上述三種方法均有各自的優點，同時也有部分缺陷。

對于金屬拋光而言，隨著金屬表面的全局平坦化和鏡面效果的要求提高，化學機械拋光是目前唯一可大規模生產的方法。區別于傳統的純機械或純化學的拋光方法，化學機械拋光(Chemical Mechanical Polishing，CMP)通過化學的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點。在化學機械拋光方法中α－氧化鋁，已被廣泛應用于集成電路和玻璃基片等元器件的表面拋光，其具有高硬度、穩定性好等優點；作為化學機械拋光磨料，α－氧化鋁的形狀、尺寸大小都直接影響著拋光效果。磨粒粒徑越小，粒度分布越窄，即均一性越好。否則，會導致拋光片面上各處的拋光速率不等，使拋光不均勻，影響拋光漿傳質的均勻性和片上壓力的分布，拋光過程中對表面的損傷較嚴重，不僅造成表面粗糙度較大，還易出現拋光劃痕、凹坑等表面缺陷影響拋光效果。