[發明專利]一種噴霧沉積制備超疏水膜的方法

在審

• 申請號: 201910444586.3
• 申請日: 2019-05-27
• 公開（公告）號: CN110170252A
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發明（設計）人: 李正;牛靜東;張健;張海豐;張蘭河;王冰
• 申請（專利權）人: 東北電力大學
• 主分類號: B01D67/00
• 分類號: B01D67/00;B01D69/02
• 代理公司: 吉林市達利專利事務所 22102
• 代理人: 陳傳林

1.一種噴霧沉積制備超疏水膜的方法，其特征是，它包括以下步驟：

(1)氟化改性納米二氧化硅制備：

按質量份，環己烷28份、氟硅烷低表面能試劑1份、納米二氧化硅0.5-2.5份配比，將0.5-2.5份納米二氧化硅和28份環己烷溶劑置于容器中，將容器置于超聲清洗機中，超聲震動20min，形成均勻的納米二氧化硅分散液，將裝有納米二氧化硅分散液的容器置在磁力攪拌器上進行攪拌，再將1份氟硅烷低表面能試劑，逐滴加入到裝有納米二氧化硅分散液的容器內，攪拌4-8h，溫度控制在50℃，得到氟化改性納米二氧化硅溶液，經2500r/min離心機，離心10min后，去除上層清液，得到氟化改性納米二氧化硅凝膠，在80-120℃下，烘干3-5h后，研磨得到氟化改性納米二氧化硅；

(2)氟化改性納米二氧化硅混合溶液制備：

按質量份比，將步驟(1)中的氟化改性納米二氧化硅1份融于79份無水乙醇溶劑中，在室溫條件下，攪拌2-4h，得到均勻的氟化改性納米二氧化硅混合溶液；

(3)超疏水膜制備：

將步驟(2)中得到均勻的氟化改性納米二氧化硅混合溶液，采用噴霧沉積法，噴涂壓力控制在0.2-0.6Mpa，噴涂距離為10-15cm，沉積在聚偏氟乙烯(PVDF)基膜上，噴涂后靜置20-40min，在60-100℃下，鼓風干燥3-5h，得到超疏水膜。

2.根據權利要求1所述的一種噴霧沉積制備超疏水膜的方法，其特征是，在步驟(1)中，按質量份比，氟硅烷低表面能試劑1份、納米二氧化硅1份。

3.根據權利要求1所述的一種噴霧沉積制備超疏水膜的方法，其特征是，在步驟(1)中，納米二氧化硅的粒徑為25-35nm。

4.根據權利要求1所述的一種噴霧沉積制備超疏水膜的方法，其特征是，所述的低表面能氟硅烷試劑為1H,1H,2H,2H-全氟辛基三氯硅烷(PFTS)組成為C₈H₄Cl₃F₁₃Si，密度為1.65g/ml或1H,1H,2H,2H-全氟癸基三氯硅烷組成為C₁₀H₄Cl₃F₁₇Si，密度為1.71g/ml。

5.根據權利要求1所述的一種噴霧沉積制備超疏水膜的方法，其特征是，所述環己烷溶劑密度為0.77g/ml。

6.根據權利要求1所述的一種噴霧沉積制備超疏水膜的方法，其特征是，在步驟(2)中，所述無水乙醇溶劑密度為0.79g/ml。