[發(fā)明專利]一種吸嘴清洗機在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910441479.5 | 申請日: | 2019-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN110052449A | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 方敏;董輝 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市山木電子設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/12 | 分類號: | B08B3/12;B08B3/02;B08B5/02;B08B13/00;F26B21/00 |
| 代理公司: | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 44384 | 代理人: | 彭西洋;謝亮 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 設(shè)備主體 流體 氣液 高壓風 吸嘴 超聲波清洗系統(tǒng) 噴淋清洗系統(tǒng) 超聲波清洗 吸嘴清洗機 風干系統(tǒng) 噴淋清洗 清洗液 清洗 減少排放 清洗效果 循環(huán)利用 風干 靈活 | ||
本發(fā)明公開一種吸嘴清洗機,包括:設(shè)備主體、超聲波清洗系統(tǒng)、氣液二流體噴淋清洗系統(tǒng)、高壓風切系統(tǒng)以及風干系統(tǒng);超聲波清洗系統(tǒng)安裝于設(shè)備主體,用于實現(xiàn)吸嘴超聲波清洗的操作;氣液二流體噴淋清洗系統(tǒng)于超聲波清洗系統(tǒng)上方安裝于設(shè)備主體,用于實現(xiàn)吸嘴氣液二流體噴淋清洗的操作;高壓風切系統(tǒng)于氣液二流體噴淋清洗系統(tǒng)上方安裝于設(shè)備主體,用于實現(xiàn)吸嘴切水的操作;風干系統(tǒng)于高壓風切系統(tǒng)上方安裝于設(shè)備主體,用于實現(xiàn)吸嘴風干的操作。本發(fā)明采用超聲波清洗與氣液二流體噴淋清洗,高壓風切相結(jié)合,清洗方式更靈活,清洗效果好,并實現(xiàn)清洗液的循環(huán)利用,可減少清洗液的用量,降低清洗成本以及減少排放。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種吸嘴清洗機。
背景技術(shù)
在電子制造領(lǐng)域中,通常需要用吸嘴吸附電子元器件來實現(xiàn)電子元器件在電路板上的精密貼裝處理,而吸嘴在貼裝過程中,易被用于輔助電子元器件貼裝的焊錫膏和助焊劑等臟污堵塞,從而導(dǎo)致拋料的質(zhì)量問題。現(xiàn)有技術(shù)中,吸嘴清洗治具固定設(shè)置在設(shè)備機架上,其無法實現(xiàn)自我調(diào)節(jié)的翻轉(zhuǎn)清洗,不能做到全方位清洗,清洗效果不佳;另一方面,吸嘴清洗機對吸嘴的清洗需要借助清洗液,為了降低清洗成本和減少排放,需要對清洗所用的液體進行回收再利用,而現(xiàn)有的吸嘴清洗機無法實現(xiàn)清洗液循環(huán)。
因此,現(xiàn)有技術(shù)存在缺陷,需要改進。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種吸嘴清洗機。
本發(fā)明的技術(shù)方案如下:一種吸嘴清洗機,包括:設(shè)備主體、超聲波清洗系統(tǒng)以及氣液二流體噴淋清洗系統(tǒng);所述超聲波清洗系統(tǒng)安裝于所述設(shè)備主體,用于實現(xiàn)吸嘴超聲波清洗的操作;所述氣液二流體噴淋清洗系統(tǒng)于所述超聲波清洗系統(tǒng)上方安裝于所述設(shè)備主體,用于實現(xiàn)吸嘴氣液二流體噴淋清洗的操作;
所述設(shè)備主體包括設(shè)有清洗移動組件的機架、控制面板、清洗室和電控室;所述電控室安裝于所述機架;所述清洗室于所述電控室上方安裝于所述機架;所述控制面板于所述清洗室前方安裝于所述機架;
所述清洗室包括觀察門、進料口以及清洗治具;所述觀察門于所述清洗室前方可開合安裝于所述機架;所述清洗治具可滑動安裝于所述清洗移動組件,通過清洗移動組件帶動來實現(xiàn)清洗治具上下滑移以及90度翻轉(zhuǎn);所述進料口于所述清洗治具上方可開合設(shè)置在所述機架上。
進一步地,所述超聲波清洗系統(tǒng)由超聲波清洗裝置、清洗泵、儲液箱以及超聲波清洗管路組成;所述儲液箱固定安裝于所述電控室,用于容置清洗液;所述清洗泵于所述儲液箱右側(cè)固定安裝于所述電控室,用于抽取清洗液;所述超聲波清洗裝置于所述清洗泵上方安裝于所述清洗室,用于實現(xiàn)超聲波清洗吸嘴的操作;
所述超聲波清洗裝置包括超聲波清洗槽、液位裝置和超聲波震板,所述超聲波震板安裝于所述清洗室,所述超聲波清洗槽于所述超聲波震板上方安裝于所述清洗室,所述超聲波清洗槽通過超聲波清洗管路與所述清洗泵的出水口相連接,所述清洗泵的進水口通過超聲波清洗管路與所述儲液箱相連接;所述液位裝置安裝于所述超聲波清洗槽,用于檢測超聲波清洗槽內(nèi)的液位;通過超聲波震板驅(qū)動超聲波清洗槽來實現(xiàn)超聲波清洗的操作。
作為一種優(yōu)選方案,所述超聲波清洗系統(tǒng)還包括排液泵;所述排液泵通過超聲波清洗管路連接儲液箱,應(yīng)用時,通過排液泵將儲液箱內(nèi)的清洗液排出,便于更換清洗液。
進一步地,所述氣液二流體噴淋清洗系統(tǒng)由噴淋清洗裝置、噴淋泵、去離子水箱、接水組件和噴淋管路;所述噴淋泵安裝于所述電控室;所述去離子水箱于所述噴淋泵上方安裝于所述電控室;所述接水組件于所述超聲波清洗系統(tǒng)上方可翻轉(zhuǎn)安裝于所述清洗室;所述噴淋清洗裝置于所述接水組件上方安裝于所述清洗室;應(yīng)用時,噴淋清洗裝置通過噴淋管路與噴淋泵的出水口相連接,噴淋泵的進水口通過噴淋管路與去離子水箱相連接,噴淋清洗裝置還通過噴淋管路外接增壓裝置,通過增壓裝置提供高壓氣體并與噴淋泵提供的高壓去離子水混合形成高壓氣液二流體,通過噴淋泵和增壓裝置驅(qū)動來實現(xiàn)高壓噴淋的操作,并通過接水組件回收去離子水;
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