[發明專利]鏡片光學鍍膜表面處理工藝以及通過該工藝制備得到的鏡片

在審

• 申請號: 201910439662.1
• 申請日: 2019-05-24
• 公開（公告）號: CN110093587A
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 陳朝嵐;吳玉民;郭勇;曾宇;楊科
• 申請（專利權）人: 湖南宏泰新材料有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/26;C23C14/02;C23C14/12;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/32
• 代理公司: 湖南天地人律師事務所 43221
• 代理人: 陳旭云

1.一種鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述工藝包括以下步驟：

步驟1)，對鏡片表面進行等離子轟擊，活化基板；

步驟2)，制鍍膜料，采用離子輔助制鍍；

步驟3)，電子束蒸鍍防水膜；

步驟4)，阻蒸蒸發AF；

步驟5)，靜置。

2.根據權利要求1鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述步驟2)中，使用Ti3O5/SiO2離子輔助鍍膜。

3.根據權利要求1鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述步驟3)中，防水膜置于石墨坩堝中。

4.根據權利要求1鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述步驟1)中，對于玻璃鏡片，通過等離子轟擊后使其水滴角值低于15°。

5.根據權利要求1或2鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述步驟2)中，根據不同的顏色需求調整膜層厚度。

6.根據權利要求1或3鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述步驟3)中，使用石墨坩堝放置防水膜時，石墨坩堝底部墊石英墊片，防水膜置于石墨坩堝內中間位置。

7.根據權利要求1或3鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述步驟3)中，預先調試電子槍電流電壓。

8.根據權利要求1鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述步驟4)中，在阻蒸蒸發位置放置AF材料。

9.根據權利要求1或8鏡片光學鍍膜表面處理工藝，其特征在于，所述AF材料為全氟聚醚硅氧烷。

10.使用權利要求1-9任一項所述鏡片光學鍍膜表面處理工藝制備得到的鏡片。