[發(fā)明專利]光學(xué)膜片的制備方法、光學(xué)膜片以及顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910431937.7 | 申請日： | 2019-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN110221363A | 公開（公告）日： | 2019-09-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王亞楠 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/113 | 分類號： | G02B1/113;G09F9/35;B05D5/06;B05D7/24;B05D3/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 抗反射 光學(xué)膜片 混合溶液 石墨烯片 顯示面板 制備 基底 混合溶液中 抗反射層 環(huán)境光 偏轉(zhuǎn) 配向處理 光學(xué)膜 涂敷 預(yù)設(shè) 磁場 反射 固化 申請 照射 | ||
1.一種光學(xué)膜片的制備方法，其特征在于，包括：
將預(yù)先制備的多個石墨烯片置于混合溶液中，以形成抗反射混合溶液；
在基底上涂敷所述抗反射混合溶液；
利用磁場對所述抗反射混合溶液進行配向處理，以使所述抗反射混合溶液中的多個石墨烯片偏轉(zhuǎn)至預(yù)設(shè)角度；
固化所述抗反射混合溶液，以在所述基底上形成抗反射層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述利用磁場對所述抗反射混合溶液進行配向處理，以使所述抗反射混合溶液中的多個石墨烯片偏轉(zhuǎn)至預(yù)設(shè)角度，包括：
將所述基底放置于一磁場中；
調(diào)節(jié)所述磁場的方向，以使所述抗反射材料中的多個石墨烯片偏轉(zhuǎn)至預(yù)設(shè)角度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述磁場旋轉(zhuǎn)的角度為90度至170度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，利用磁場對所述抗反射材料進行配向處理的時間大于2秒。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述磁場的強度為400毫特斯拉至700毫特斯拉。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述固化所述抗反射混合溶液，以在所述基底上形成抗反射層，包括：
基于所述混合溶液中的光初始劑，選取與所述混合溶液對應(yīng)的固化光；
利用所述固化光，固化所述抗反射混合溶液，以在所述基底上形成抗反射層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述基于所述混合溶液中的光初始劑，選取與所述混合溶液對應(yīng)的固化光，包括：
檢測所述混合溶液中的光初始劑的成分；
根據(jù)所述光初始劑的成分，以確定所述光初始劑對應(yīng)的固化光。
8.一種光學(xué)膜片，其特征在于，包括：
基底；
抗反射層，所述抗反射層設(shè)置在所述基底上；
其中，所述抗反射層內(nèi)設(shè)置有多個石墨烯片，所述石墨烯片用于吸收波長在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)的光線。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)膜片，其特征在于，多個所述石墨烯片呈陣列排布，且相鄰行的所述石墨烯片錯位設(shè)置。
10.一種顯示面板，包括相對設(shè)置的第一基板、第二基板以及設(shè)置在所述第一基板和第二基板之間的液晶層，其特征在于，所述顯示面板還包括權(quán)利要求8至9任一項所述的光學(xué)膜片，所述光學(xué)膜片設(shè)置在所述第一基板上。
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