[發明專利]一種天體引力場的測量裝置及方法在審
| 申請號： | 201910431587.4 | 申請日： | 2019-05-23 |
| 公開（公告）號： | CN110132127A | 公開（公告）日： | 2019-08-16 |
| 發明（設計）人： | 王志文 | 申請（專利權）人： | 王志文 |
| 主分類號： | G01B9/02 | 分類號： | G01B9/02;G01V7/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 050000 河北省石家莊*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光柵測量裝置 垂直旋轉裝置 垂直的 引力場 光子 天體 測量裝置 干涉條紋 激光光源 分光鏡 光路 反光鏡 反射鏡反射 垂直光路 垂直狀態 光線彎曲 移動光柵 引力透鏡 引力作用 周期變化 周期移動 相位差 出水 兩路 引力 激光 | ||
【權利要求書】：
1.一種天體引力場的測量裝置，包括激光光源、分光鏡、反光鏡、光柵測量裝置、MCU中央處理器及垂直旋轉裝置；所述激光光源、分光鏡、反光鏡、光柵測量裝置、MCU中央處理器在同一個平面上，并安裝固定到垂直旋轉裝置上；所述兩路相互垂直光路分光鏡至反光鏡的距離相等，所述分光鏡接收激光光源發出的激光信號，并將該激光信號分成兩路光路射向反光鏡，所述光柵測量裝置用于檢測經反光鏡反射的光路的干涉條紋。
2.根據權利要求1所述的測量裝置，其特征在于：所述分光鏡射向反光鏡的兩路光路的夾角為90度。
3.一種天體引力場的測量方法，其特征在于：測量引力場時旋轉垂直旋轉裝置，使分光鏡射向反光鏡的兩路光路交替呈現水平或垂直狀態，旋轉垂直旋轉裝置可以正向旋轉亦可逆向旋轉。
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