[發明專利]蒸鍍裝置及其驅動組件的控制方法

有效

• 申請號: 201910429999.4
• 申請日: 2019-05-22
• 公開（公告）號: CN110106475B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 汪國杰
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括：加熱裝置、坩堝以及多個噴嘴；其中，

所述加熱裝置正對于所述坩堝進行設置；

所述坩堝設置在所述加熱裝置與所述噴嘴之間，用于盛放蒸鍍材料；

多個所述噴嘴等間距的設置在所述坩堝背離所述加熱裝置的表面；

其中，所述噴嘴包括噴嘴本體、第一蓋體、第二蓋體以及控制器，所述噴嘴本體設有連通所述坩堝的腔體，所述第二蓋體可活動地設置于所述噴嘴本體的遠離所述坩堝的一側，所述第二蓋體設置有開孔以在所述第二蓋體遮蓋所述坩堝的所述腔體時連通所述腔體，所述第一蓋體可活動地設置于所述第二蓋體的遠離所述噴嘴本體的一側，所述控制器用于控制所述第二蓋體遮蓋或不遮蓋所述坩堝的所述腔體，以及用于控制所述第一蓋體遮蓋或不遮蓋所述第二蓋體的所述開孔。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述噴嘴為空心圓柱形，所述坩堝為立方體或是圓柱體。

3.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，多個所述噴嘴設置在背離所述加熱裝置的表面，并與所述坩堝之間呈一定的預設角度。

4.根據權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述預設角度為90度。

5.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，還包括驅動組件，與所述第一蓋體和所述第二蓋體連接，所述第一蓋體可轉動地連接于所述第二蓋體，所述第二蓋體可轉動地連接于所述噴嘴本體，所述驅動組件用于接收控制信號以驅動所述第一蓋體或是所述第二蓋體轉動。

6.根據權利要求5所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第一蓋體或是所述第二蓋體為圓形或是矩形。

7.根據權利要求6所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第一蓋體的橫截面的面積小于所述第二蓋體的橫截面的面積，且小于所述噴嘴的內圓圓截面的面積；所述第二蓋體橫截面的面積小于所述噴嘴外圓圓截面的面積。

8.一種蒸鍍裝置驅動組件的控制方法，其特征在于，所述蒸鍍裝置為權利要求1至7任一項所述的蒸鍍裝置，所述方法包括：

S10，測量蒸鍍薄膜層的厚度；

S20，若所述蒸鍍薄膜層部分區域厚度偏薄，則控制所述區域所對應的所述噴嘴的所述第二蓋體不遮擋所述腔體，而控制其他區域對應的所述噴嘴的所述第二蓋體遮擋所述腔體而所述第一蓋體遮擋所述第二蓋體的所述開孔，或所述其他區域對應的所述噴嘴的所述第二蓋體遮擋所述腔體而所述第一蓋體不遮擋所述第二蓋體的所述開孔；S30，若所述蒸鍍薄膜層部分區域厚度偏厚，則由程序向控制器發出信號，則控制所述區域所對應的所述噴嘴的所述第一蓋體遮擋所述第二蓋體的所述開孔和所述第二蓋體遮擋所述腔體，或所述區域對應的所述噴嘴的所述第二蓋體遮擋所述腔體而所述第一蓋體不遮擋所述第二蓋體的所述開孔，而控制所述其他區域所對應的所述噴嘴的所述第二蓋體不遮擋所述腔體；

S40，若所述蒸鍍薄膜層的厚度整體一致，則繼續進行蒸鍍。