[發明專利]一種高層建筑結構

在審

• 申請號: 201910421718.0
• 申請日: 2019-05-21
• 公開（公告）號: CN110284597A
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發明（設計）人: 劉江;何娟
• 申請（專利權）人: 文華學院
• 主分類號: E04B1/34
• 分類號: E04B1/34
• 代理公司: 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種高層建筑結構，其特征在于，包括：建筑主體、外延樓層結構、若干拉索及若干拱體；

若干所述拱體的中部固定設置在所述建筑主體的頂部，每個所述拱體開口的方向均背離所述建筑主體的頂部；

若干所述拉索與若干所述拱體一一對應，所述拉索的兩端與相對應的所述拱體的兩端連接，所述拱體的兩端位于所述拱體中部的上方；

所述外延樓層次結構與所述拱體固定連接。

2.根據權利要求1所述的高層建筑結構，其特征在于：

若干所述拱體等間距均勻間隔固定設置在所述建筑主體的頂部。

3.根據權利要求1所述的高層建筑結構，其特征在于：

所述外延樓層結構包括上承式樓層結構、中承式樓層結構及下承式樓層結構。

4.根據權利要求3所述的高層建筑結構，其特征在于，所述上承式樓層結構包括：若干第一支撐桿及若干第一水平樓層；

若干所述第一支撐桿與所述拱體背離所述建筑主體的弧面固定連接；

若干所述第一水平樓層固定設置在若干所述第一支撐桿之間。

5.根據權利要求4所述的所述的高層建筑結構，其特征在于：

若干所述第一支撐桿等間距均勻間隔設置在所述拱體背離所述建筑主體的弧面上；

每兩個相鄰的所述第一支撐桿之間有第一間隙；

若干所述第一水平樓層由上至下設置在所述第一間隙內。

6.根據權利要求3所述的高層建筑結構，其特征在于，所述下承式樓層結構包括：若干第一連接桿及若干第二水平樓層；

若干所述第一連接桿與所述拱體朝向所述建筑主體的弧面固定連接；

若干所述第二水平樓層固定設置在若干所述第一連接桿之間。

7.根據權利要求6所述的所述的高層建筑結構，其特征在于：

若干所述第一連接桿等間距均勻間隔設置在所述拱體朝向所述建筑主體的弧面上；

每兩個相鄰的所述第一連接桿之間有第一間隙；

若干所述第二水平樓層由上至下設置在所述第一間隙內。

8.根據權利要求3所述的高層建筑結構，其特征在于，所述中承式樓層結構包括：若干第二支撐桿、若干第三水平樓層、若干第二連接桿及若干第四水平樓層；

若干所述第二支撐桿與所述拱體背離所述建筑主體的弧面固定連接；

若干所述第三水平樓層固定設置在若干所述第二支撐桿之間；

若干所述第二連接桿與所述拱體朝向所述建筑主體的弧面固定連接；

若干所述第四水平樓層固定設置在若干所述第二連接桿之間。

9.根據權利要求8所述的所述的高層建筑結構，其特征在于：

若干所述第二支撐桿等間距均勻間隔設置在所述拱體背離所述建筑主體的弧面上；

每兩個相鄰的所述第二支撐桿之間有第三間隙；

若干所述第三水平樓層由上至下設置在所述第三間隙內。

10.根據權利要求8所述的所述的高層建筑結構，其特征在于：

若干所述第二連接桿等間距均勻間隔設置在所述拱體朝向所述建筑主體的弧面上；

每兩個相鄰的所述第二連接桿之間有第四間隙；

若干所述第四水平樓層由上至下設置在所述第四間隙內。