[發(fā)明專(zhuān)利]一種調(diào)節(jié)高抗拉銅箔面密度的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910409268.3
• 申請(qǐng)日: 2019-05-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110042441B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-10-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江泱;范遠(yuǎn)朋;楊帥國(guó)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 九江德?？萍脊煞萦邢薰?/a>
• 主分類(lèi)號(hào): C25D1/04
• 分類(lèi)號(hào): C25D1/04;C25D21/12
• 代理公司: 北京紐樂(lè)康知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11210
• 代理人: 劉艷艷

本發(fā)明公開(kāi)了一種調(diào)節(jié)高抗拉銅箔面密度的方法，包括以下步驟：獲取銅箔橫向位置的面密度值，繪制面密度曲線(xiàn)，并平滑處理，根據(jù)平滑處理后的面密度曲線(xiàn)對(duì)應(yīng)裁剪出一條邊和獲得的平滑曲線(xiàn)重合的絕緣屏蔽膠帶，將絕緣屏蔽膠帶按軸向貼在陽(yáng)極板上，在下次銅箔生成的過(guò)程中，所述絕緣屏蔽膠帶會(huì)對(duì)電流密度產(chǎn)生影響，對(duì)應(yīng)的實(shí)現(xiàn)對(duì)面密度的調(diào)節(jié)。本發(fā)明的調(diào)節(jié)高抗拉銅箔面密度的方法通過(guò)利用絕緣膠帶的屏蔽作用和對(duì)應(yīng)位置的面密度的大小，實(shí)現(xiàn)對(duì)電流大小的微調(diào)，從而確保在進(jìn)液孔進(jìn)液流量和速度有差異的情況下，銅箔生產(chǎn)過(guò)程中，箔面橫向的面密度更加均勻，減少因進(jìn)液孔流量差異造成的銅箔外觀不良，進(jìn)而達(dá)到改善銅箔的抗拉強(qiáng)度的目的。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電解銅箔技術(shù)領(lǐng)域，具體來(lái)說(shuō)，涉及一種調(diào)節(jié)高抗拉銅箔面密度的方法。

背景技術(shù)

在高抗拉電解銅箔領(lǐng)域，面密度的均勻性在銅箔的抗拉強(qiáng)度方面有較大的影響，如果出現(xiàn)局部的不均勻，銅箔的抗拉強(qiáng)度會(huì)因?yàn)槊婷芏炔痪鶆蛞鸬谋∪觞c(diǎn)而降低，最終影響高抗拉銅箔規(guī)?；a(chǎn)的推廣。電解銅箔生產(chǎn)過(guò)程中，電解液通過(guò)進(jìn)液孔進(jìn)入陽(yáng)極板構(gòu)成的電解槽中，各個(gè)進(jìn)液孔的流量和進(jìn)液速度雖然設(shè)置的是相等的，但總是存在微小的差異，因?yàn)檫@種差異的存在，造成銅箔生成的過(guò)程中，橫向的面密度存在差異，容易形成外觀不良，針對(duì)以上問(wèn)題，需要對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行合理的改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)相關(guān)技術(shù)中的上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提出一種調(diào)節(jié)高抗拉銅箔面密度的方法，能夠克服現(xiàn)有技術(shù)的上述不足。

為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：

一種調(diào)節(jié)高抗拉銅箔面密度的方法，包括以下步驟：

（1）銅箔橫向位置的面密度值的獲取：取一段出現(xiàn)面密度不均勻現(xiàn)象的銅箔，沿軸向取完整，縱向大于200mm，標(biāo)注好方向；將所取銅箔從左到右平均分成20-25個(gè)小長(zhǎng)方形，上下交替裁剪出大小相同的小長(zhǎng)方形銅箔，標(biāo)注好順序；將裁剪好的小長(zhǎng)方形銅箔依次稱(chēng)重并記錄；

（2）面密度曲線(xiàn)的繪制：針對(duì)步驟（1）中所述稱(chēng)重?cái)?shù)據(jù)擬合曲線(xiàn)并平滑處理；

（3）絕緣屏蔽膠帶的制作：根據(jù)步驟（2）得到的平滑處理后的面密度曲線(xiàn)對(duì)應(yīng)裁剪出一條邊和獲得的平滑曲線(xiàn)重合的絕緣屏蔽膠帶；

（4）絕緣屏蔽膠帶粘貼在陽(yáng)極板上：將步驟（3）剪出的絕緣屏蔽膠帶按軸向貼在進(jìn)液孔左邊第二塊陽(yáng)極板上，在下次銅箔生成的過(guò)程中，所述絕緣屏蔽膠帶會(huì)對(duì)電流密度產(chǎn)生影響，對(duì)應(yīng)的實(shí)現(xiàn)對(duì)面密度的調(diào)節(jié)。

進(jìn)一步的，所述的銅箔橫向位置是指銅箔的寬度方向。

進(jìn)一步的，所述的面密度曲線(xiàn)是采用相鄰位置的面密度值求平均的方式獲得更多位置的面密度值，把這些面密度值平滑連接獲得面密度曲線(xiàn)。

進(jìn)一步的，所述的絕緣屏蔽膠帶厚度在0.5mm以下，是絕緣、耐高溫有粘性的膠帶。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明的調(diào)節(jié)高抗拉銅箔面密度的方法簡(jiǎn)單，可操作性強(qiáng)，通過(guò)利用絕緣膠帶的屏蔽作用和對(duì)應(yīng)位置的面密度的大小，實(shí)現(xiàn)對(duì)電流大小的微調(diào)，從而確保在進(jìn)液孔進(jìn)液流量和速度有差異的情況下，銅箔生產(chǎn)過(guò)程中，箔面橫向的面密度更加均勻，減少因進(jìn)液孔流量差異造成的銅箔外觀不良，進(jìn)而達(dá)到改善銅箔的抗拉強(qiáng)度的目的。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例所述的獲取銅箔面密度值時(shí)，裁剪小長(zhǎng)方形銅箔的裁剪位置的示意圖；

圖2是根據(jù)獲得的小長(zhǎng)方形銅箔稱(chēng)重后，按順序獲得的平滑處理后的面密度曲線(xiàn)的示意圖；