[發(fā)明專利]一種適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910407803.1
• 申請日: 2019-05-15
• 公開（公告）號: CN110132524A
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱濤;謝永軍;陳磊;趙衛(wèi);徐翔;徐崧博;李四新;王鵬;馬曉宇;任尚杰;許曉斌;屈恩世;章起華;胡永明;楊波;范孝華
• 申請（專利權(quán)）人: 中國空氣動力研究與發(fā)展中心超高速空氣動力研究所;中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01M9/06
• 分類號: G01M9/06
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 鄭麗紅

1.一種適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：包括光源系統(tǒng)、密封前觀察窗(5)、準直主反射鏡(6)、紋影系統(tǒng)、紋影主反射鏡(10)、密封后觀察窗(11)和成像系統(tǒng)；

所述紋影系統(tǒng)包括依次設(shè)置的密封前紋影鏡筒(7)、試驗艙(8)、密封后紋影鏡筒(9)；

所述密封前觀察窗(5)設(shè)置在密封前紋影鏡筒(7)的側(cè)面，所述密封后觀察窗(11)設(shè)置在密封后紋影鏡筒(9)的側(cè)面；

所述光源系統(tǒng)發(fā)出的光線穿過密封前觀察窗(5)入射到準直主反射鏡(6)，經(jīng)過準直主反射鏡(6)準直后的光線經(jīng)過密封前紋影鏡筒(7)進入試驗艙(8)，經(jīng)過試驗艙(8)氣流后通過密封后紋影鏡筒(9)入射到紋影主反射鏡(10)，紋影主反射鏡(10)將光線反射，通過密封后觀察窗(11)后入射到成像系統(tǒng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述密封前觀察窗(5)為小尺寸密封前觀察窗，其口徑小于有效流場顯示范圍的1/10。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述密封后觀察窗(11)為小尺寸密封后觀察窗，其口徑小于有效流場顯示范圍的1/10。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述密封前紋影鏡筒(7)和試驗艙(8)通過密封波紋管(17)連接，所述試驗艙(8)和密封后紋影鏡筒(9)通過密封波紋管(17)連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述光源系統(tǒng)包括依次設(shè)置的超高亮度LED燈(1)、聚光透鏡組(2)、狹縫(3)、第一平面反射鏡(4)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述聚光透鏡組(2)的光軸、狹縫(3)的中心，第一平面反射鏡(4)的中心同軸設(shè)置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述狹縫(3)為“口”字型狹縫。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述成像系統(tǒng)包括依次設(shè)置的第二平面反射鏡(12)、刀口(13)、聚焦透鏡組(15)和紋影相機(16)，以及控制刀口(13)的刀口控制器(14)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)，其特征在于：所述密封前紋影鏡筒(7)和密封后紋影鏡筒(9)為圓柱型結(jié)構(gòu)。