[發(fā)明專利]一種適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910407803.1 | 申請日: | 2019-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN110132524A | 公開(公告)日: | 2019-08-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱濤;謝永軍;陳磊;趙衛(wèi);徐翔;徐崧博;李四新;王鵬;馬曉宇;任尚杰;許曉斌;屈恩世;章起華;胡永明;楊波;范孝華 | 申請(專利權(quán))人: | 中國空氣動力研究與發(fā)展中心超高速空氣動力研究所;中國科學院西安光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | G01M9/06 | 分類號: | G01M9/06 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標代理有限公司 61211 | 代理人: | 鄭麗紅 |
| 地址: | 621000 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紋影 密封 主反射鏡 鏡筒 后觀察窗 前觀察窗 試驗艙 入射 準直 風洞試驗段 成像系統(tǒng) 光源系統(tǒng) 大口徑 系統(tǒng)靈敏度 背景照度 觀測系統(tǒng) 光線反射 依次設(shè)置 側(cè)面 大窗口 均勻性 穿過 玻璃 | ||
1.一種適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:包括光源系統(tǒng)、密封前觀察窗(5)、準直主反射鏡(6)、紋影系統(tǒng)、紋影主反射鏡(10)、密封后觀察窗(11)和成像系統(tǒng);
所述紋影系統(tǒng)包括依次設(shè)置的密封前紋影鏡筒(7)、試驗艙(8)、密封后紋影鏡筒(9);
所述密封前觀察窗(5)設(shè)置在密封前紋影鏡筒(7)的側(cè)面,所述密封后觀察窗(11)設(shè)置在密封后紋影鏡筒(9)的側(cè)面;
所述光源系統(tǒng)發(fā)出的光線穿過密封前觀察窗(5)入射到準直主反射鏡(6),經(jīng)過準直主反射鏡(6)準直后的光線經(jīng)過密封前紋影鏡筒(7)進入試驗艙(8),經(jīng)過試驗艙(8)氣流后通過密封后紋影鏡筒(9)入射到紋影主反射鏡(10),紋影主反射鏡(10)將光線反射,通過密封后觀察窗(11)后入射到成像系統(tǒng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述密封前觀察窗(5)為小尺寸密封前觀察窗,其口徑小于有效流場顯示范圍的1/10。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述密封后觀察窗(11)為小尺寸密封后觀察窗,其口徑小于有效流場顯示范圍的1/10。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述密封前紋影鏡筒(7)和試驗艙(8)通過密封波紋管(17)連接,所述試驗艙(8)和密封后紋影鏡筒(9)通過密封波紋管(17)連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述光源系統(tǒng)包括依次設(shè)置的超高亮度LED燈(1)、聚光透鏡組(2)、狹縫(3)、第一平面反射鏡(4)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述聚光透鏡組(2)的光軸、狹縫(3)的中心,第一平面反射鏡(4)的中心同軸設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述狹縫(3)為“口”字型狹縫。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述成像系統(tǒng)包括依次設(shè)置的第二平面反射鏡(12)、刀口(13)、聚焦透鏡組(15)和紋影相機(16),以及控制刀口(13)的刀口控制器(14)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的適用于風洞試驗段的大口徑紋影系統(tǒng),其特征在于:所述密封前紋影鏡筒(7)和密封后紋影鏡筒(9)為圓柱型結(jié)構(gòu)。
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