[發(fā)明專利]散射校正方法、系統(tǒng)、可讀存儲(chǔ)介質(zhì)和設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910407650.0
• 申請(qǐng)日: 2019-05-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110215223B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-01-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄧子林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海聯(lián)影醫(yī)療科技股份有限公司
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00;A61B6/03;G06T5/00
• 代理公司: 杭州華進(jìn)聯(lián)浙知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33250
• 代理人: 舒丁

1.一種散射校正方法，其特征在于，包括以下步驟：

獲取掃描對(duì)象的不加散射校正的響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖，獲取所述掃描對(duì)象的掃描衰減圖；

根據(jù)所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖和所述掃描衰減圖獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖；

將所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖、所述掃描衰減圖和所述散射事件分布弦圖輸入至預(yù)設(shè)的散射校正模型，獲得在第二預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖；其中，所述第一預(yù)設(shè)數(shù)量小于所述第二預(yù)設(shè)數(shù)量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射校正方法，其特征在于，所述根據(jù)所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖和所述掃描衰減圖獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖的步驟包括以下步驟：

根據(jù)所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖和所述掃描衰減圖進(jìn)行圖像重建，獲得不加散射校正的三維放射源分布圖；

根據(jù)所述掃描衰減圖在所述三維放射源分布圖中均勻分布所述第一預(yù)設(shè)數(shù)量的散射點(diǎn)；

根據(jù)分布有散射點(diǎn)的三維放射源分布圖進(jìn)行散射校正，獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的散射校正方法，其特征在于，所述根據(jù)分布有散射點(diǎn)的三維放射源分布圖進(jìn)行散射校正，獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖的步驟包括以下步驟：

針對(duì)所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖中的每一條采樣響應(yīng)線，獲取所述三維放射源分布圖中每一個(gè)散射點(diǎn)進(jìn)行散射的概率；

遍歷所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖中的所有采樣響應(yīng)線和所述三維放射源分布圖中的所有散射點(diǎn)，根據(jù)所得到的概率獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射校正方法，其特征在于，在所述將所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖、所述掃描衰減圖和所述散射事件分布弦圖輸入至預(yù)設(shè)的散射校正模型的步驟之前，還包括以下步驟：

獲取不加散射校正的響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖樣本，以及對(duì)應(yīng)的掃描衰減圖樣本；

根據(jù)所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖樣本和所述掃描衰減圖樣本獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的第一散射事件分布弦圖樣本，以及在第二預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的第二散射事件分布弦圖樣本；

將所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖樣本、所述掃描衰減圖樣本和所述第一散射事件分布弦圖樣本作為輸入訓(xùn)練樣本，將所述第二散射事件分布弦圖樣本作為輸出訓(xùn)練樣本，對(duì)卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型進(jìn)行訓(xùn)練，獲得所述預(yù)設(shè)的散射校正模型。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的散射校正方法，其特征在于，所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖樣本包括不同模體或不同臨床病人掃描下的響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的散射校正方法，其特征在于，所述根據(jù)所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖樣本和所述掃描衰減圖樣本獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的第一散射事件分布弦圖樣本，以及在第二預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的第二散射事件分布弦圖樣本的步驟包括以下步驟：

根據(jù)基于塊狀采樣的響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖樣本和所述掃描衰減圖獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的第一散射事件分布弦圖樣本；

根據(jù)基于單晶體采樣的響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖樣本和所述掃描衰減圖獲取在第二預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的第二散射事件分布弦圖樣本。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任意一項(xiàng)所述的散射校正方法，其特征在于，所述獲取所述掃描對(duì)象的掃描衰減圖的步驟包括以下步驟：

獲取所述掃描對(duì)象的電子計(jì)算機(jī)斷層掃描數(shù)據(jù)，根據(jù)所述電子計(jì)算機(jī)斷層掃描數(shù)據(jù)獲取所述掃描衰減圖。

8.一種散射校正系統(tǒng)，其特征在于，包括：

圖像獲取單元，用于獲取掃描對(duì)象的不加散射校正的響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖，獲取所述掃描對(duì)象的掃描衰減圖；

散射分析單元，用于根據(jù)所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖和所述掃描衰減圖獲取在第一預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖；

散射校正單元，用于將所述響應(yīng)數(shù)據(jù)弦圖、所述掃描衰減圖和所述散射事件分布弦圖輸入至預(yù)設(shè)的散射校正模型，獲得在第二預(yù)設(shè)數(shù)量散射點(diǎn)下的散射事件分布弦圖；其中，所述第一預(yù)設(shè)數(shù)量小于所述第二預(yù)設(shè)數(shù)量。

9.一種可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有可執(zhí)行程序，其特征在于，所述可執(zhí)行程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的散射校正方法的步驟。

10.一種散射校正設(shè)備，包括存儲(chǔ)器和處理器，所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有可執(zhí)行程序，其特征在于，所述處理器執(zhí)行所述可執(zhí)行程序時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的散射校正方法的步驟。