[發明專利]一種黑色光阻襯底霧狀的清洗方法

有效

• 申請號: 201910406978.0
• 申請日: 2019-05-15
• 公開（公告）號: CN110262197B
• 公開（公告）日: 2023-03-10
• 發明（設計）人: 李思擁;鄭運松;曾一鑫
• 申請（專利權）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/40
• 分類號: G03F7/40;H01L21/02
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 李健威;陳衛

1.一種黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，步驟如下：

提供一黑色光阻襯底，所述黑色光阻襯底包括襯底層和形成于所述襯底層上的黑色光阻圖案層，所述黑色光阻圖案層具有鏤空區域和光阻區域，制作所述黑色光阻圖案層的黑色光阻材料中含有碳黑；

采用流體對所述襯底層在所述鏤空區域中的露出部分進行沖洗，其中，所述流體對所述襯底層上殘留的碳黑的剝離力大于所述碳黑對所述襯底層的附著力；

所述流體為高壓或超高壓，壓強為70Mpa-150Mpa。

2.根據權利要求1所述的黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，所述流體為液體或氣體。

3.根據權利要求1所述的黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，所述黑色光阻襯底的制作步驟為：先在所述襯底層上涂布所述黑色光阻材料，然后對所述黑色光阻材料進行預烘烤形成黑色光阻層，接著對所述黑色光阻層進行曝光顯影形成所述黑色光阻圖案層。

4.根據權利要求3所述的黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，所述黑色光阻圖案層的鏤空區域對應于所述黑色光阻層中已曝光而去除的區域，所述黑色光阻圖案層的光阻區域對應于所述黑色光阻層中未曝光而留下的區域。

5.根據權利要求1所述的黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，在采用流體對所述襯底層在所述鏤空區域中的露出部分進行沖洗之后，還包括：

檢測所述襯底層上殘留的碳黑是否已沖洗干凈。

6.根據權利要求5所述的黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，檢測所述襯底層上殘留的碳黑是否已沖洗干凈的步驟如下：

對所述襯底層在所述鏤空區域中的露出部分進行局部擦拭；

判斷所述襯底層的擦拭處和未擦拭處之間是否存在顏色斷層；

若不存在顏色斷層，則所述襯底層上殘留的碳黑已沖洗干凈。

7.根據權利要求6所述的黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，判斷是否存在顏色斷層在黑背景和2000照度的條件下進行。

8.根據權利要求5-7中任一所述的黑色光阻襯底霧狀的清洗方法，其特征在于，檢測所述襯底層上殘留的碳黑是否已沖洗干凈的步驟如下：

對所述襯底層在所述鏤空區域中的露出部分進行擦拭；

在所述襯底層露出的部分內制作無機非金屬氧化物透明層；

判斷所述襯底層露出的部分是否存在色差；

若不存在色差，則所述襯底層上殘留的碳黑已沖洗干凈。