[發明專利]一種基于改進雙邊濾波的井下圖像處理方法

在審

• 申請號: 201910405130.6
• 申請日: 2019-05-15
• 公開（公告）號: CN110288536A
• 公開（公告）日: 2019-09-27
• 發明（設計）人: 常戩;孔奧陽
• 申請（專利權）人: 遼寧工程技術大學
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00;G06T7/11;G06T7/136
• 代理公司: 重慶百潤洪知識產權代理有限公司 50219
• 代理人: 劉立春

1.一種基于改進雙邊濾波的井下圖像處理方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟一、輸入井下原圖像；

步驟二、采用雙邊濾波算法估計得出原圖片的光照圖像：

步驟三、數域轉換得到反射圖像R(i,j)；

步驟四、對得到的反射圖像R(i,j)進行線性拉伸；

步驟五、采用Otsu閾值分割法獲得光照圖像的切割閾值，根據切割閾值將光照圖像劃分為亮、暗區域；用雙邊濾波器對光照圖像亮、暗區域進行去噪；

步驟六、采用分段性線性變換方法，增強濾波后的光照圖像的對比度得到增強對比度后的光照圖像L(i,j)；根據S(x,y)＝R(x,y)×L(x,y)得到處理后的拍攝圖像，其中S(x,y)為處理后的拍攝圖像。

2.如權利要求1所述的基于改進雙邊濾波的井下圖像處理方法，其特征在于，所述雙邊濾波算法中相鄰像素點間空間距離的度量α的計算方法如下：

3.如權利要求1所述的基于改進雙邊濾波的井下圖像處理方法，其特征在于，所述步驟五中，Otsu閾值分割法獲得光照圖像的切割閾值的方法如下：

獲得光照圖像的直方圖，然后按照直方圖的分布，將圖像分成背景和前景兩部分，前景和背景的分界值即為閾值，通過遍歷不同閾值，計算不同閾值下對應的背景和前景之間的類間方差v(t)，當類間方差取得極大值時對應的閾值t就是所求的切割閾值；類間方差公式如下；

v(t)＝ω₀×(μ₀-μ)²+ω₁×(μ₁-μ)²

其中，ω₀為小于閾值t的像素在圖像中占的比例；ω₁為大于閾值t的像素在圖像中占的比例；μ₀為小于閾值t的像素的均值；μ₁為大于閾值t的像素的均值；μ為整幅圖像的均值，公式如下：

μ＝ω₀×μ₀+ω₁×μ₁。

4.如權利要求1所述的基于改進雙邊濾波的井下圖像處理方法，其特征在于，所述步驟六中，采用分段性線性變換方法，增強濾波后的光照圖像的對比度得到增強對比度后的光照圖像L(i,j)的方法如下：其中，f(i,j)為拉伸后的輸出圖像，d(i,j)為輸入圖像，其中(a,b),(c,d)表示分段函數斜率發生變化的點。