[發(fā)明專利]液晶基板鍍ITO膜前處理方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910402445.5 | 申請日: | 2019-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN110158024A | 公開(公告)日: | 2019-08-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李福松;尹建春 | 申請(專利權)人: | 惠晶顯示科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/02 | 分類號: | C23C14/02;C23C14/08;C23C14/34;G02F1/13;C03C17/245 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責任公司 32218 | 代理人: | 夏平 |
| 地址: | 215614 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 前處理液 液晶基板 清洗 水洗槽 玻璃基板 前處理 浸泡 玻璃基板表面 聚合氯化鋁 重量百分比 玻璃表面 純水清洗 氫氧化鉀 去離子水 三乙醇胺 液晶玻璃 紫外線光 清洗槽 清洗水 水補充 透氣孔 硝酸銨 吹干 鍍膜 放入 封堵 末級 前級 溢流 固化 排放 補充 | ||
本發(fā)明公開了一種液晶基板鍍ITO膜前處理方法,其步驟為:步驟一、對液晶基板的兩片液晶玻璃之間的透氣孔用UV膠進行封堵,并采用紫外線光固化;步驟二、用純水對玻璃表面進行清洗,采取多級梯次清洗方式,一級清洗槽中的清洗水溢流排放,后級水洗槽的水補充到前級水洗槽末級水洗槽補充純水;步驟三、將經(jīng)過3級清洗的玻璃基板,放入到鍍膜前處理液中浸泡20?50min,前處理液包括如下重量百分比的成分:氫氧化鉀10?15%;硝酸銨6?10%;三乙醇胺7?12%;聚合氯化鋁10?15%;其余為去離子水;步驟四、將前處理液浸泡過的玻璃基板用純水進行清洗;步驟五、將純水清洗過的玻璃基板表面吹干。
技術領域
本發(fā)明涉及一種液晶基板鍍ITO膜前處理方法。
背景技術
液晶面板會因為工藝需求,對面板進行減薄加工,獲得更佳的穿透率,更輕薄的重量。常規(guī)液晶面板經(jīng)過前段蝕刻制程后,會進入到鍍膜制程(國內(nèi)主流鍍膜方式為真空濺鍍),若來料表面異常(臟污、酸性殘留、異物粘附、靜電過大)很容易造成,鍍膜層所鍍ITO膜層脫落,造成產(chǎn)品品質(zhì)異常。而減薄后面板含有酸性物質(zhì)及OC異物,造成后續(xù)ITO鍍膜脫膜。所以需在液晶基板鍍ITO膜前進行基板表面處理處理。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是:提供一種使得液晶基板鍍ITO膜更為牢固的前處理方法。
為解決上述技術問題,本發(fā)明所采用的技術方案為:液晶基板鍍ITO膜前處理方法,其步驟為:
步驟一、對液晶基板的兩片液晶玻璃之間的透氣孔用UV膠進行封堵,并采用紫外線光固化;
步驟二、用純水對玻璃表面進行清洗,采取多級梯次清洗方式,一級清洗槽中的清洗水溢流排放,后級水洗槽的水補充到前級水洗槽末級水洗槽補充純水;
步驟三、將經(jīng)過清洗的玻璃基板,放入到鍍膜前處理液中浸泡20-50min,前處理液包括如下重量百分比的成分:氫氧化鉀10-15%;硝酸銨6-10%;三乙醇胺7-12%;聚合氯化鋁10-15%;其余為去離子水;
步驟四、將前處理液浸泡過的玻璃基板用純水進行清洗;
步驟五、將純水清洗過的玻璃基板表面吹干。
作為一種優(yōu)選的方案,采取三級梯次清洗方式,一級清洗槽中的清洗水溢流排放,二級水洗槽的水補充到一級水洗槽,三級水洗槽的水補充到二級水洗槽,三級水洗槽補充純水。
本發(fā)明的有益效果是:本方法通過對玻璃清洗和前處理液通過堿性處理液有效降低了玻璃表面酸性PH值,降低了產(chǎn)品鍍膜后脫膜的風險。
前處理液中氫氧化鉀用于中和產(chǎn)品表面酸性PH值;聚合氯化鋁用于吸附電荷和作用指粒表面對異號離子,異號膠粒或鏈狀離分子帶異號電荷的部位有強烈的吸附作用,由于這種吸附作用中和了它的部分電荷,減少了靜電斥力,因而容易與其它顆粒接近而互相吸附,使產(chǎn)品鍍膜過程阻力更小,鍍膜膜層不易脫離,鍍膜后膜層阻值較小。
具體實施方式
下面詳細描述本發(fā)明的具體實施方案。
實施例1,液晶基板鍍ITO膜前處理方法,其步驟為:
步驟一、對液晶基板的兩片液晶玻璃之間的透氣孔用UV膠進行封堵,并采用紫外線光固化;
步驟二、用純水對玻璃表面進行清洗,采取二級梯次清洗方式,一級清洗槽中的清洗水溢流排放,二級水洗槽的水補充到一級水洗槽,二級水洗槽補充純水。
步驟三、將經(jīng)過清洗的玻璃基板,放入到鍍膜前處理液中浸泡50min,前處理液包括如下重量百分比的成分:氫氧化鉀10%;硝酸銨6%;三乙醇胺7%;聚合氯化鋁10%;其余為去離子水;
步驟四、將前處理液浸泡過的玻璃基板用純水進行清洗;
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





