[發(fā)明專利]一種具有阻性場(chǎng)板的超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910400968.6 | 申請(qǐng)日: | 2019-05-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110212017B | 公開(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 程駿驥;陳為真 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06;H01L29/40 |
| 代理公司: | 電子科技大學(xué)專利中心 51203 | 代理人: | 甘茂 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 阻性場(chǎng)板 超結(jié)帶槽 橫向 耐壓 | ||
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體功率器件領(lǐng)域,涉及橫向耐壓區(qū),具體提供一種有阻性場(chǎng)板的超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū),應(yīng)用于半導(dǎo)體功率器件的結(jié)邊緣終端或者橫向半導(dǎo)體功率器件包括LDMOS(Lateral Double?Diffused MOSFET)、LIGBT(Lateral Insulated Gate Bipolar Transistor)。本發(fā)明通過在超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū)中的絕緣介質(zhì)槽與具有超結(jié)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體漂移區(qū)之間增加阻性場(chǎng)板,調(diào)制反向耐壓狀態(tài)下的表面電場(chǎng)分布,使其更加均勻,從而優(yōu)化擊穿電壓與比導(dǎo)通電阻之間的關(guān)系。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體功率器件領(lǐng)域,涉及橫向耐壓區(qū),特別是帶有槽型結(jié)構(gòu)的橫向耐壓區(qū);可應(yīng)用于半導(dǎo)體功率器件的結(jié)邊緣終端,或者橫向半導(dǎo)體功率器件包括LDMOS(Lateral Do uble-Diffused MOSFET)、LIGBT(Lateral Insulated Gate BipolarTransistor)等的耐壓區(qū)。
背景技術(shù)
橫向半導(dǎo)體功率器件,如LDMOS(Lateral Double-Diffused MOSFET,LDMOS)等,在功率集成電路上有著廣泛的應(yīng)用,但它們通常需要很長(zhǎng)的橫向耐壓區(qū)來(lái)承受高的反向耐壓,占用芯片面積很大。為此人們提出了一種帶有槽型結(jié)構(gòu)的橫向耐壓區(qū)(本文稱為“普通的帶槽橫向耐壓區(qū)”),如圖1所示;該耐壓區(qū)通過在表面嵌入一個(gè)填充絕緣介質(zhì)的槽,來(lái)代替原有的半導(dǎo)體材料,以獲得兩個(gè)主要優(yōu)點(diǎn):其一、因?yàn)榻^緣介質(zhì)的臨界擊穿場(chǎng)強(qiáng)一般遠(yuǎn)高于半導(dǎo)體材料的,所以與以前的無(wú)槽耐壓區(qū)相比,在承受相同反向電壓的條件下,有槽耐壓區(qū)所需的橫向?qū)挾雀。黄涠⑺度氲慕橘|(zhì)槽等效增加了半導(dǎo)體中漂移區(qū)的總長(zhǎng)度,從無(wú)槽時(shí)的O1至O4的直線距離,增加為帶槽時(shí)的O1-O2-O3-O4這一折疊的距離(漂移區(qū)折疊總長(zhǎng)),利于在相同橫向器件寬度的條件下獲得更高的擊穿電壓。
進(jìn)一步地,把“超結(jié)技術(shù)”(美國(guó)專利:US 5216275A)應(yīng)用到普通的帶槽橫向耐壓區(qū)中,可以延伸出一種有超結(jié)漂移區(qū)的帶槽橫向耐壓區(qū)(本文稱為“傳統(tǒng)的超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū)”),如圖2所示;這種結(jié)構(gòu)的優(yōu)點(diǎn)在于,P型漂移區(qū)08可以對(duì)N型漂移區(qū)02進(jìn)行電荷補(bǔ)償,兩者形成超結(jié)漂移區(qū),從而在相同耐壓要求下提高漂移區(qū)濃度,降低漂移區(qū)電阻。
然而無(wú)論是普通的帶槽橫向耐壓區(qū),還是傳統(tǒng)的超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū),都存在一個(gè)致命弱點(diǎn):它們的表面電場(chǎng)分布會(huì)受到槽電容的破壞。這里所謂的槽電容,其介質(zhì)就是槽中的絕緣介質(zhì),其兩個(gè)極板分別就是O1-O2左側(cè)的和O3-O4右側(cè)的半導(dǎo)體區(qū)。當(dāng)耐壓區(qū)反向耐壓時(shí),陰極07接高電位,陽(yáng)極05接低電位,在槽電容上會(huì)形成一個(gè)縱向變化的電勢(shì)差;具體而言,在槽的表面,這個(gè)電勢(shì)差是O1與O4之間的電壓,接近陰極與陽(yáng)極之間所承受的反向電壓;在槽的底部,這個(gè)電勢(shì)差是O2與O3之間的電壓,接近于零;槽電容上縱向變化的電勢(shì)差會(huì)在兩個(gè)極板感應(yīng)出數(shù)量也相應(yīng)縱向變化的電荷,這些電荷將破壞耐壓區(qū)的表面電場(chǎng)分布;特別地,對(duì)于傳統(tǒng)的超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū)而言,這些電荷破壞了P型漂移區(qū)08和N型漂移區(qū)02之間的電荷平衡條件,使超結(jié)技術(shù)的優(yōu)勢(shì)不能完全發(fā)揮出來(lái)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明之目的在于提出一種有阻性場(chǎng)板的超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū),用以優(yōu)化擊穿電壓與比導(dǎo)通電阻之間的關(guān)系。本發(fā)明在傳統(tǒng)的超結(jié)帶槽橫向耐壓區(qū)的基礎(chǔ)上,在槽內(nèi)嵌入一個(gè)阻性場(chǎng)板,它的兩端分別與陰極和陽(yáng)極相連,阻性場(chǎng)板具有很高、且均勻的電阻率。當(dāng)耐壓區(qū)反向耐壓時(shí),阻性場(chǎng)板中將流過一股微弱的電流,在電流的路徑上將產(chǎn)生均勻的電勢(shì)分布;如此可以對(duì)半導(dǎo)體中的表面電場(chǎng)分布起到調(diào)制作用,尤其屏蔽了槽電容的影響,縮短槽的寬度,使超結(jié)漂移區(qū)滿足電荷平衡條件,最終優(yōu)化擊穿電壓與比導(dǎo)通電阻之間的關(guān)系。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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