[發(fā)明專利]改進型供氣式低壓射流曝氣器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910399241.0 | 申請日： | 2019-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN110078204A | 公開（公告）日： | 2019-08-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王先寶;閻毓;張安龍;張波;高俊玲;侯銀萍;亓雪菲;張雨笛 | 申請（專利權(quán)）人： | 陜西科技大學(xué) |
| 主分類號： | C02F3/12 | 分類號： | C02F3/12 |
| 代理公司： | 西安智大知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 61215 | 代理人： | 王晶 |
| 地址： | 710021 陜西省*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 曝氣器 混合單元 一級噴嘴 進氣管 低壓射流 出氣管 改進型 供氣式 孔洞 氣液混合單元 氧轉(zhuǎn)移效率 充分接觸 動力效率 二級噴嘴 混合室處 活性污泥 循環(huán)水管 混合室 室內(nèi)部 背離 污水 改進 | ||
1.改進型供氣式低壓射流曝氣器，其特征在于，包括混合室(5)，所述的混合室(5)內(nèi)部設(shè)置有球形氣液混合單元(3)，球形混合單元(3)與進氣管(4)相連并設(shè)置于一級噴嘴(2)前端，進氣管(4)位于球形混合單元(3)上方，在球形混合單元(3)背離一級噴嘴(2)處一側(cè)開設(shè)孔洞(7)或設(shè)置出氣管(8)，位于出氣管(8)前端的混合室(5)處設(shè)置有二級噴嘴(6)，所述的一級噴嘴(2)設(shè)置在循環(huán)水管(1)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進型供氣式低壓射流曝氣器，其特征在于，所述的球形混合單元(3)截面積占混合室(5)截面積的30％-50％。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進型供氣式低壓射流曝氣器，其特征在于，所述的球形氣液混合單元(3)設(shè)置在一級噴嘴(2)前端5-10cm處，球形混合單元(3)內(nèi)部中心點與一級噴嘴(2)中心在同一水平高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進型供氣式低壓射流曝氣器，其特征在于，所述的孔洞(7)最大投影面積占球形混合單元3最大截面積的20％-50％。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進型供氣式低壓射流曝氣器，其特征在于，所述的出氣管(8)長度1-4cm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進型供氣式低壓射流曝氣器，其特征在于，所述的出氣管(8)面積占球形混合單元(4)最大截面積的20％-50％。
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