[發明專利]一種無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池及其制備方法在審
| 申請號: | 201910399234.0 | 申請日: | 2019-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN110224066A | 公開(公告)日: | 2019-09-10 |
| 發明(設計)人: | 余學功;李格;楊德仁 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/48 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡紅娟 |
| 地址: | 310013 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鈣鈦礦 輔助層 空穴傳輸層 太陽能電池 半透明 制備 透明電極層 無機材料 疊層太陽能電池 磁控濺射工藝 透明導電基板 電子傳輸層 電子束蒸發 器件穩定性 商業化應用 磁控濺射 依次布置 活性層 沉積 兼容 | ||
1.一種無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,包括從下往上依次布置的透明導電基板、電子傳輸層、鈣鈦礦活性層、空穴傳輸層和透明電極層,所述的透明電極層的材料為ITO、AZO或IZO,通過磁控濺射或電子束蒸發的方法沉積在空穴傳輸層上。
2.根據權利要求1所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述透明導電基板為覆蓋ITO、AZO、IZO或FTO薄膜的玻璃或塑料。
3.根據權利要求1所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述的電子傳輸層的材料為TiO2、SnO2、PCBM或ZnO。
4.根據權利要求3所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述電子傳輸層的制備過程為:
將濃度為15~40mg/mL的SnO2、TiO2、PCBM或者ZnO前驅體溶液旋涂在ITO、AZO、IZO或FTO導電玻璃上,轉速為3000~5000rpm,時間為30~60s;之后使用加熱臺加熱玻璃到180~270℃并保溫0.5~2h,然后用紫外臭氧處理5~15min。
5.根據權利要求1所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述鈣鈦礦活性層由ABX3型鈣鈦礦材料形成,其中,A選自Cs+、CH3NH3+、CH(NH2)2+或其混合物,B選自Pb2+、Sn2+或其混合物,X選自Br-、I-、Cl-或其混合物。
6.根據權利要求5所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述鈣鈦礦活性層的制備過程為:
將A、B和X按1:1~1.2:1~1.2的摩爾比溶解在DMF溶液中,濃度為1.25~1.6mol/ml;溶解后,將鈣鈦礦前驅體溶液滴在電子傳輸層上,在3000~5000rpm下旋涂,在第20~22s時滴加600~1000μL的乙醚;將旋涂好的鈣鈦礦薄膜放在100~120℃的加熱臺上熱處理5~30min。
7.根據權利要求1所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述的空穴傳輸層為NiO、Cu2O、CuO、CuSCN或CuI。
8.根據權利要求7所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述空穴傳輸層的制備過程為:
將20~60mg的NiO、Cu2O、CuO、CuSCN或CuI溶解于1mL的乙硫醚溶劑中,在玻璃以3000~6000rpm旋轉的同時滴加到玻璃上,繼續旋轉30~60s。
9.根據權利要求1所述的無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述透明電極層通過磁控濺射的方法沉積在空穴傳輸層上,沉積過程為:在0.1~1Pa的真空條件下,以20~60W的功率磁控濺射100~150nm的透明電極層材料在空穴傳輸層上。
10.一種無輔助層的半透明鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)透明導電基板的清洗:ITO、AZO、IZO或FTO導電玻璃依次在去離子水、洗潔精、丙酮、乙醇溶液中超聲清洗5~10min,用氮氣將導電玻璃吹干,使用紫外臭氧清洗機處理10~20min;
(2)電子傳輸層的制備:將濃度為15~40mg/mL的SnO2、TiO2、PCBM或者ZnO前驅體溶液旋涂在ITO、AZO、IZO或FTO導電玻璃上,轉速為3000~5000rpm,時間為30~60s;之后使用加熱臺加熱玻璃到180~270℃并保溫0.5~2h,然后用紫外臭氧處理5~15min;
(3)鈣鈦礦活性層的制備:將A、B和X按1:1~1.2:1~1.2的的摩爾比溶解在DMF溶液中,濃度為1.25~1.6mol/ml;其中,A選自Cs+、CH3NH3+、CH(NH2)2+或其混合物,B選自Pb2+、Sn2+或其混合物,X選自Br-、I-、Cl-或其混合物;
溶解后,將得到的鈣鈦礦前驅體溶液滴在電子傳輸層上,在3000~5000rpm下旋涂,在第20~22s時滴加600~1000μL的乙醚;將旋涂好的鈣鈦礦薄膜放在100~120℃的加熱臺上熱處理5~30min;
(4)空穴傳輸層的制備:將20~60mg的NiO、Cu2O、CuO、CuSCN或CuI溶解于1mL的乙硫醚溶劑中,在玻璃以3000~6000rpm旋轉的同時滴加到玻璃上的鈣鈦礦薄膜上,繼續旋轉30~60s;
(5)透明電極的制備:在0.1~1Pa的真空條件下,以20~60W的功率磁控濺射100~150nm的ITO、AZO或IZO在上述空穴傳輸層上。
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