[發明專利]光源切換復用單元同軸度調試系統及方法在審
| 申請號: | 201910398215.6 | 申請日: | 2019-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN110109262A | 公開(公告)日: | 2019-08-09 |
| 發明(設計)人: | 趙虎 | 申請(專利權)人: | 北京東方銳鐳科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/62 | 分類號: | G02B27/62 |
| 代理公司: | 北京天盾知識產權代理有限公司 11421 | 代理人: | 張彩珍 |
| 地址: | 100020 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 復用單元 光源切換 共用系統 多波長 離軸拋物面反射鏡 調試系統 同軸度 光斑成像裝置 超連續譜 出射光束 基準光源 激光光源 同軸度調節 反射光束 反射光源 焦點位置 聚焦光斑 快速調節 入射側 中心軸 光源 入射 射出 匯聚 靈活 | ||
1.一種光源切換復用單元同軸度調試系統,用于多波長共用系統同軸度調節,所述多波長共用系統包括光源切換復用單元,其特征在于,包括超連續譜激光光源、離軸拋物面反射鏡、光斑成像裝置;
所述超連續譜激光光源用于布置于多波長共用系統的光源入射側,用于向所述光源切換復用單元提供基準光源,使所述基準光源入射通過所述多波長共用系統的中心軸,經所述光源切換復用單元后水平射出;
所述離軸拋物面反射鏡布置于所述光源切換復用單元出射光束方向,用于接收并反射所述光源切換復用單元的出射光束;
所述光斑成像裝置布置于所述離軸拋物面反射鏡的焦點位置,用于將所述離軸拋物面反射鏡的反射光束匯聚成聚焦光斑。
2.根據權利要求1所述的光源切換復用單元同軸度調試系統,其特征在于,還包括五維調整平臺,所述五維調整平臺與所述超連續譜激光光源的光源輸出尾纖連接,用于對所述基準光源入射方向進行精確調節,以使入射光束與所述多波長共用系統的中心軸重合。
3.根據權利要求2所述的光源切換復用單元同軸度調試系統,其特征在于,所述五維調整平臺通過對光源輸出尾纖X、Y、Z三個方向,以及俯仰、偏擺方向進行調整,使入射光束與所述多波長共用系統的中心軸重合。
4.根據權利要求1所述的光源切換復用單元同軸度調試系統,其特征在于,所述離軸拋物面反射鏡表面鍍有金屬鋁反射膜,通過所述金屬鋁反射膜對0.45μm~20μm波長的激光光束進行反射。
5.根據權利要求4所述的光源切換復用單元同軸度調試系統,其特征在于,所述離軸拋物面反射鏡的焦距為1m。
6.根據權利要求1所述的光源切換復用單元同軸度調試系統,其特征在于,所述光斑成像裝置采用近紅外或可見光波段CCD。
7.根據權利要求1至6任一項所述的光源切換復用單元同軸度調試系統,其特征在于,還包括光斑顯示裝置,所述光斑顯示裝置用于顯示所述聚焦光斑相對空間位置,以供所述光源切換復用單元在多波長共用系統中進行同軸度調試。
8.一種光源切換復用單元同軸度調試方法,其特征在于,包括:
步驟一,通過超連續譜激光光源向光源切換復用單元提供基準光源,使所述基準光源入射通過多波長共用系統的中心軸,經光源切換復用單元后水平射出;
步驟二,通過離軸拋物面反射鏡接收并反射光源切換復用單元的出射光束;
步驟三,通過布置于離軸拋物面反射鏡焦點位置的光斑成像裝置將所述離軸拋物面反射鏡的反射光束匯聚成聚焦光斑;
步驟四,通過光斑顯示裝置顯示所述聚焦光斑相對空間位置,以供光源切換復用單元在多波長共用系統中進行同軸度調試。
9.根據權利要求8所述的光源切換復用單元同軸度調試方法,其特征在于,所述步驟一包括:
通過五維調整平臺調整光源輸出尾纖X、Y、Z三個方向,以及俯仰、偏擺方向,使入射光束與多波長共用系統的中心軸重合。
10.根據權利要求8所述的光源切換復用單元同軸度調試方法,其特征在于,所述步驟四包括:
通過調節所述供光源切換復用單元每一路波長選擇器件的方位俯仰,使每路反射光束焦點的空間位置重合,實現各路光束同軸輸出。
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