[發(fā)明專利]空氣凈化裝置和空氣凈化系統在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910395905.6 | 申請日: | 2019-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN110056996A | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉勇江;張欣 | 申請(專利權)人: | 北威(重慶)科技股份有限公司 |
| 主分類號: | F24F3/16 | 分類號: | F24F3/16;F24F13/28 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 肖麗 |
| 地址: | 400800 重慶市萬*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光催化 空氣凈化裝置 透明 反射單元 空氣凈化系統 反應器 光源 環(huán)保技術領域 凈化空氣效果 反光鏡 光觸媒材料 光催化反應 光催化效率 空氣凈化 光線反射 光源光線 間隔設置 交錯布置 氣流通道 氣體通道 供空氣 彎曲形 鋼化 光能 射出 玻璃 流通 | ||
本發(fā)明屬于環(huán)保技術領域,涉及一種空氣凈化裝置和空氣凈化系統。該空氣凈化裝置包括反應器,以及設置在反應器內部的透明光催化基片組、光源和反射單元;透明光催化基片組由多個間隔設置的透明光催化基片組成,多個透明光催化基片交錯布置形成供空氣流通的彎曲形氣流通道,每個透明光催化基片上均負載有光觸媒材料;反射單元設置在光源光線射出方向上,反射單元能夠將光源發(fā)出的光線反射到透明光催化基片上。本發(fā)明的光催化空氣凈化裝置,設有鋼化光催化玻璃和反光鏡,能夠極大限度的利用光能;設有S形氣體通道,能夠有效增加光催化反應時間,使空氣凈化更徹底;光催化效率高。本發(fā)明與傳統技術相比,設計科學合理,凈化空氣效果明顯。
技術領域
本發(fā)明屬于環(huán)保技術領域,涉及氣體凈化設備,具體而言,涉及一種空氣凈化裝置和空氣凈化系統。
背景技術
室內空氣中存在500多種揮發(fā)性有機物,包含了20多種致癌物質和200多種致病病毒,其中,危害較大污染物的主要有:氨、甲醛、苯、氡以及酯、三氯乙烯等。室內空氣的污染程度要比室外嚴重2~5倍,而車內空氣中的有害物質含量是居家和辦公室的5~10倍。據調查,68%的疾病是由于室內污染造成的,室內空氣污染已成為危害人類健康的五大環(huán)境因素之一。
現有技術中,空氣凈化器常采用的技術包括吸附技術、負(正)離子技術、催化技術、光觸媒技術、HEPA高效過濾技術等。其中,所涉及的光觸媒技術被認為是一種有效的殺菌、除異味的方法。光觸媒是一種以二氧化鈦納米顆粒為代表的具有強烈光催化效果的半導體納米材料的總稱。將它負載到基材表面后,在一定波長的光激發(fā)下,能產生強烈的光催化降解功能,可以降解空氣中的有害氣體,殺滅多種細菌,同時還具備除臭、抗污等功能。光觸媒的凈化效果長久有效,適合用于空氣凈化裝置。
目前,光觸媒用于空氣凈化裝置主要存在以下不足:紫外燈壽命低,影響光觸媒裝置的長期催化效率;紫外燈體積大,導致空氣凈化裝置體積較大;大多數光觸媒載體都是采用金屬基板或濾網材料,透光性差,光催化劑的光催化效果降低;光催化反應空間光路設計不合理,導致光能量利用率低,影響了光催化效果。
鑒于此,特提出本發(fā)明。
發(fā)明內容
本發(fā)明的第一目的在于提供一種空氣凈化裝置,具有光催化反應空間光路設計合理、光觸媒對光能的利用率高、光催化效率高、空氣凈化效果明顯的特點,能夠克服上述問題或者至少部分地解決上述技術問題。
本發(fā)明的第二目的在于提供一種空氣凈化系統,該空氣凈化系統包括上述的空氣凈化裝置。
為實現上述目的,本發(fā)明采用的技術方案為:
根據本發(fā)明的一個方面,本發(fā)明提供一種空氣凈化裝置,包括反應器,以及設置在所述反應器內部的透明光催化基片組、光源和反射單元;
所述透明光催化基片組由多個間隔設置的透明光催化基片組成,多個所述透明光催化基片交錯布置形成供空氣流通的彎曲形氣流通道,每個所述透明光催化基片上均負載有光觸媒材料;
所述反射單元設置在光源光線射出方向上,所述反射單元能夠將所述光源發(fā)出的光線反射到透明光催化基片上。
優(yōu)選地,反射單元設置在光源正反兩面光線射出方向上。
優(yōu)選地,所述彎曲形氣流通道為“S”形氣流通道、“C”形氣流通道、折線形氣流通道或波浪形氣流通道。
優(yōu)選地,所述透明光催化基片為玻璃或透明陶瓷中的至少一種,優(yōu)選為玻璃,進一步優(yōu)選為鋼化玻璃;
優(yōu)選地,所述光觸媒材料為氧化鋅、納米二氧化鈦或改性納米二氧化鈦材料。
優(yōu)選地,多個所述透明光催化基片等間距或變間距布置,優(yōu)選為等間距布置;
優(yōu)選地,相鄰兩個所述透明光催化基片之間的距離為3~15cm,優(yōu)選為5~10cm。
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