[發明專利]離子注入角度監測方法及系統

在審

• 申請號: 201910388905.3
• 申請日: 2019-05-10
• 公開（公告）號: CN110112083A
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發明（設計）人: 田成俊;邸太平;洪紀倫;吳宗祐;林宗賢
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/265
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 余明偉

1.一種離子注入角度監測方法，其特征在于，包括如下步驟：

從用于晶圓離子注入的離子束中分隔出監測束；

將所述監測束在未裝載晶圓時的照射路徑作為標準照射路徑，確定所述標準照射路徑；

將所述監測束在裝載晶圓時的照射路徑作為實時照射路徑，在對所述晶圓進行離子注入的過程中，實時監測所述實時照射路徑，并判斷所述實時照射路徑是否偏離所述標準照射路徑。

2.根據權利要求1所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，所述離子束包含寬度大于晶圓直徑的寬束離子束，從所述寬束離子束中分隔出所述監測束的方法包括：設置帶有通孔的擋板，所述通孔位于所述寬束離子束寬度超出所述晶圓直徑部分的照射路徑上，所述寬束離子束通過所述通孔分隔出所述監測束。

3.根據權利要求2所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，確定所述標準照射路徑的方法包括：在所述監測束的照射方向上定義一固定面，所述固定面垂直于所述照射方向，采用離子檢測裝置檢測所述監測束在所述固定面上的照射位置，并結合所述通孔的位置確定所述標準照射路徑。

4.根據權利要求3所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，所述離子檢測裝置成對設置于所述固定面上，成對的所述離子檢測裝置的排列方向與所述監測束有共同交點，所述離子檢測裝置沿所述排列方向可動，成對的所述離子檢測裝置從所述監測束的兩側分別貼近所述監測束，使所述離子檢測裝置處于檢測不到所述監測束且最接近所述監測束的位置，以確定所述監測束在所述固定面上的照射位置。

5.根據權利要求4所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，在確定所述監測束在所述固定面上的照射位置后，固定所述離子檢測裝置的位置，在對所述晶圓進行離子注入的過程中，當所述離子檢測裝置檢測到所述監測束時，判斷所述實時照射路徑已偏離所述標準照射路徑。

6.根據權利要求3所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，所述離子檢測裝置為單個，設置于所述固定面上且在所述固定面上可動，通過使所述離子檢測裝置移動并檢測到所述監測束，以確定所述監測束在所述固定面上的照射位置。

7.根據權利要求6所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，在確定所述監測束在所述固定面上的照射位置后，固定所述離子檢測裝置的位置，在對所述晶圓進行離子注入的過程中，當所述離子檢測裝置檢測不到所述監測束時，判斷所述實時照射路徑已偏離所述標準照射路徑。

8.根據權利要求3所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，所述離子檢測裝置包括法拉第杯。

9.根據權利要求3所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，所述寬束離子束在所述晶圓的兩側都有超出所述晶圓直徑的部分，所述通孔成對設于所述晶圓兩側，位于所述寬束離子束寬度超出所述晶圓直徑部分的照射路徑上，所述寬束離子束通過成對的所述通孔分隔出兩束所述監測束，多個所述離子檢測裝置分別檢測兩束所述監測束在所述固定面上的照射位置，并結合所述通孔的位置確定所述標準照射路徑。

10.根據權利要求2所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，所述通孔包括狹縫，所述狹縫的長度方向垂直于所述寬束離子束的寬度方向。

11.根據權利要求1所述的一種離子注入角度監測方法，其特征在于，在確定所述標準照射路徑的過程中，通過設置保護擋板覆蓋保護未裝載晶圓的晶圓承載臺，避免所述離子束轟擊所述晶圓承載臺。

12.一種離子注入角度監測系統，其特征在于，包括：

離子束分隔模塊，用于從晶圓離子注入所用的離子束中分隔出監測束；

定位監測模塊，用于對所述監測束的照射路徑進行定位及監測。