[發明專利]一種數字投影直接感光成像裝置及其工藝在審
| 申請號: | 201910377434.6 | 申請日: | 2019-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN110095949A | 公開(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發明(設計)人: | 范金剛;藍學軍;胡迷俊 | 申請(專利權)人: | 深圳市博宇佳瑞光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 深圳市神州聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 44324 | 代理人: | 周松強 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 投影儀 感光載體 成像裝置 數字投影 直接感光 電腦 機臺 圖像 投影儀投影 紫外燈光源 操作過程 感光成像 活動連接 生產加工 裝置結構 曝光 工藝流程 電連接 在機 光源 | ||
一種數字投影直接感光成像裝置及其工藝,其包括電腦、機臺、投影儀、感光載體和調節機構,所述投影儀的光源為紫外燈光源,所述投影儀、感光載體和調節機構均設置在機臺上,所述投影儀與感光載體對應設置,所述投影儀通過基座與調節機構活動連接,且所述調節機構調節投影儀與感光載體之間的距離,所述投影儀和調節機構均與電腦電連接;利用電腦制作出需要曝光的圖像,將該圖像通過投影儀投影至感光載體上并對感光載體進行曝光。整個感光成像的操作過程簡單方便,且本裝置結構簡單,工藝流程操作簡單、生產加工成本低。
技術領域
本發明涉及曝光技術領域,特別涉及一種投影曝光裝置及其工藝。
背景技術
光刻機(MaskAligner)又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等。光刻(Photolithography)指的是用光來制作一個圖形,一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
現有技術公開了一種多功能的LED平行曝光機(申請號:201711154058.1),該發明包括外殼、支腳、墊塊、工作架結構、散熱裝置、燈架、燈源、輔助照明裝置和控制面板,所述的支腳焊接自外殼的下部左右兩側;所述的墊塊安裝在支腳的中下部;所述的工作架結構安裝在燈架的上部右側。該發明縱向刻度尺通過調節塊安裝在滑軌上,有利于方便調節曝光件在工作架本體上的橫向位置;橫向定位架套接在縱向刻度尺的右側,有利于方便調節曝光件在工作架本體上的縱向位置;防塵網安裝在固定框的右側,有利于防止灰塵進入到固定框對,配合循環管和散熱風機,進一步提高對燈源的散熱效果;燈管采用可伸縮塑料波紋管,有利于方便調節照明燈的照射角度,進一步增加使用功能。
這類物理原稿(膠片或掩膜版,以下簡稱原稿)光學轉移曝光成像裝置的原理是:通過原稿(膠片或掩膜版,上有黑白圖案)與感光材料的緊密接觸后曝光而成,在涂有感光材料的載體上得到原稿上的圖像,需要提前將電腦上設計好的圖像制作成原稿。但這種方式,存在以下缺陷:1、其制作原稿需要成本、較復雜的工藝技術和設備,完成訂單需要的工藝流程相對復雜,效率較低,交貨周期長;2、制作膠片原稿的過程中存在化學藥劑(如顯影液、定影液)的使用和污水(膠片經過顯影,定影后需要水洗)的排放;3、在將原稿轉移到感光載體的過程中需要將兩者完全貼合,貼合方式是用軟橡皮將原稿與感光載體擠壓包裹并抽掉其中的空氣使之形成真空,橡皮在擠壓原稿和被曝光物完全貼合的過程中,可能會引起原稿或被曝光物變形,從而導致感光載體上的圖案尺寸與原稿的尺寸出現偏差。
現有技術還公開了一種噴墨成像裝置以及用于該噴墨成像裝置的墨盒(申請號:201220666605.0),該實用新型的墨盒具有劃定儲墨腔的框體,所述儲墨腔內設有:限制單元,浮子部件和可與浮子部件連動的第一被檢測部件;墨盒框體中設有導光柱,導光柱在檢測位置處形成凹槽。當墨盒中墨水充足時,所述第一被檢測部件嵌在所述凹槽中,導光柱光路導通;當墨水量不足時,浮子部件下降帶動光學部件從所述凹槽中移出,導光柱光通路被截斷;因此只要檢測導光柱有無光路通過即可判斷墨盒中墨量是否充足,墨盒結構相對簡單,并且能夠實現可靠的墨水量檢測。
噴墨成像系統的原理是:通過噴墨系統把阻光的油墨噴印在感光層上,待油墨干燥后接著用紫外線進行全面曝光,這時未噴墨的地方感光層見光硬化,噴墨的地方連同油墨能被水沖洗掉,從而形成圖文部分,這種技術相當于在感光載體上噴了一層原稿圖像后再曝光成像。但這種方式的缺陷是1、阻光油墨必須有足夠的密度以阻擋全面曝光時的紫外線,要求墨層的密度要大于3.0;2、油墨要具有足夠的流動性,以保證其不堵塞噴嘴;3、油墨墨滴會產生飛濺而影響精度;4、噴嘴要不斷移動才能完成,一次也只能完成一小部分,速度慢;5、此系統耗材(油墨,噴嘴)的費用較高;6、油墨是一種化工產品,存在一定的污染性,且油墨需要干燥后再進行后曝光處理。
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