[發明專利]顯示面板及其制作方法

有效

• 申請號: 201910374865.7
• 申請日: 2019-05-07
• 公開（公告）號: CN110148685B
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 李文杰
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種顯示面板的制作方法，其特征在于，包括步驟：

S10、提供一襯底，在所述襯底上形成第一有機層；

S20、在所述第一有機層上形成反射層；

S30、在所述反射層上形成透光層，

所述透光層包括遠離所述反射層的第一凸面；

S40、在所述透光層上形成發光器件層；

步驟S40包括：

S401、在所述透光層上形成陽極層；

S402、在所述陽極層上形成發光層；

S403、在所述發光層上形成陰極層；

所述反射層包括靠近所述第一有機層的第一表面和靠近所述透光層的第二表面，所述第二表面為凹面，所述第一凸面的最大高度小于凹面的最大深度；

所述陽極層、所述發光層、及所述陰極層的表面與所述第一凸面平行。

2.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

步驟S10包括：

S101、提供一襯底；

S102、在所述襯底上形成一有機膜層；

S103、利用預定器件在所述有機膜層上形成所第一凹槽。

3.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述預定器件為包括規則球形凸起的硅片；

所述第一凹槽與所述反射層接觸的表面為第一弧面。

4.根據權利要求3所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

步驟S20包括：

利用蒸鍍工藝在所述第一凹槽內形成反射層；

所述反射層的第一表面及第二表面與所述第一弧面平行。

5.根據權利要求2所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

所述預定器件為包括規則長方體凸起的硅片；

所述第一凹槽與所述反射層接觸的表面為平面。

6.根據權利要求5所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，

步驟S20包括：

利用蒸鍍工藝在所述第一凹槽內形成反射薄膜層；

利用蝕刻工藝在所述反射薄膜層形成第二凹槽；

所述第二凹槽包括與所述透光層接觸的第二弧面。

7.根據權利要求1所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述透光層包括無機氧化物、無機氮化物或有機聚合物中的一種或一種以上的組合物。

8.一種顯示面板，其特征在于，包括：

襯底；

位于所述襯底上的第一有機層；

位于所述第一有機層上的反射層；

位于所述反射層上的透光層，包括遠離所述反射層的第一凸面；

位于所述透光層上的發光器件層；

所述反射層包括靠近所述第一有機層的第一表面和靠近所述透光層的第二表面，所述第二表面為凹面，所述第一凸面的最大高度小于凹面的最大深度；

所述發光器件層包括位于所述透光層上的陽極層、位于所述陽極層上的發光層、及位于所述發光層上的陰極層；

所述陽極層、所述發光層、及所述陰極層的表面與所述第一凸面平行。

9.根據權利要求8所述的顯示面板，其特征在于，所述第一有機層包括第一凹槽，所述反射層位于所述第一凹槽內。

10.根據權利要求9所述的顯示面板，其特征在于，所述第一凹槽與所述反射層接觸的表面為平面。

11.根據權利要求9所述的顯示面板，其特征在于，所述第一凹槽與所述反射層接觸的表面為第一弧面。

12.根據權利要求10所述的顯示面板，其特征在于，所述反射層包括第二凹槽，所述透光層位于所述第二凹槽內，所述第二凹槽包括與所述透光層接觸的第二弧面。