[發明專利]一種攪拌釜用密封裝置、系統及密封控制方法

在審

• 申請號: 201910370810.9
• 申請日: 2019-05-06
• 公開（公告）號: CN110067862A
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發明（設計）人: 李雙喜;張馨宇;李慶展;徐玄霜;張永強;張勇衛
• 申請（專利權）人: 北京化工大學
• 主分類號: F16J15/3236
• 分類號: F16J15/3236;F16J15/34;F16J15/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種攪拌釜用密封裝置，其特征在于，包括：密封腔體、軸套、密封環和彈性箍緊件；其中，

所述軸套套接于所述密封腔體內，且所述軸套與所述密封腔體之間具有空隙區域；

所述密封環套接于所述軸套與所述密封腔體之間，且位于所述空隙區域內，所述密封環靠近所述軸套的側壁沿周向設置有密封唇口，所述密封環靠近所述密封腔體的側壁沿周向設置有箍緊件安裝槽；

所述彈性箍緊件安裝于所述箍緊件安裝槽內，以箍緊所述密封環。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述密封唇口的數量為多個，多個所述密封唇口沿所述密封環的軸向排列并構成至少兩個密封唇口對，每個所述密封唇口對中的兩個所述密封唇口之間均設置有泄漏介質預留槽。

3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，

所述箍緊件安裝槽的數量為多個，多個所述箍緊件安裝槽沿所述密封環的軸向排列；

所述密封環靠近所述密封腔體的側壁上，與每個所述泄漏介質預留槽對應的位置均夾設于兩個所述箍緊件安裝槽之間。

4.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，

所述泄漏介質預留槽的深度大于7毫米且小于10毫米；

和/或，

所述密封環的最小厚度區域的厚度大于或等于5毫米。

5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述密封腔體開設有增壓孔，所述增壓孔的一端連通于所述箍緊件安裝槽，所述增壓孔的另一端貫穿所述密封腔體的側壁，用于與調壓裝置相連接。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述密封腔體還開設有回流孔，所述回流孔的一端連通于目標區域，所述回流孔的另一端貫穿所述密封腔體的側壁，用于與所述調壓裝置相連接；其中，所述目標區域為所述間隙區域中，位于所述軸套與所述密封環之間的區域。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：擋環和填料推環；其中，

所述軸套還套接于所述擋環和所述填料推環內；

所述擋環和所述填料推環均與所述密封腔體固定連接，所述擋環限定所述密封環的軸向運動，所述擋環、所述填料推環和所述軸套三者的圍設區域中具有填料。

8.一種攪拌釜用密封系統，其特征在于，包括如權利要求1至6中任一項所述的攪拌釜用密封裝置。

9.根據權利要求8所述的系統，其特征在于，在所述攪拌釜用密封裝置中的密封腔體開設有增壓孔和回流孔的情況下，所述系統還包括：調壓裝置；其中，

所述調壓裝置的輸出端與所述增壓孔相連接，所述調壓裝置的輸入端與所述回流孔相連通；

所述調壓裝置從所述輸入端獲得從所述回流孔回流的泄漏介質，根據回流的泄漏介質量，調節從所述輸出端輸出的氣體的壓力，以將回流的泄漏介質量保持在預設的泄漏介質量范圍內。

10.根據權利要求9所述的系統，其特征在于，所述調壓裝置20包括：氣瓶、回流收集箱和控制器；其中，

所述氣瓶通過第一管路與所述輸出端連通，所述回流收集箱通過第二管路與所述輸入端連通，所述第一管路上設置有調節閥門；

所述控制器用于檢測回流至所述回流收集箱中的泄漏介質量，并根據檢測到的泄漏介質量，調節所述調節閥門的開度，以調節從所述輸出端輸出的氣體的氣壓。

11.一種密封調節方法，其特征在于，應用于如權利要求9所述的攪拌釜用密封系統，所述方法包括：

獲得從所述系統中的密封腔體開設的回流孔回流的泄漏介質量；

根據所述泄漏介質量，調節從系統中的調節裝置的輸出端輸出的氣體的壓力，以將回流的泄漏介質量保持在預設的泄漏介質量范圍內。