[發明專利]一種用于評估黑矩陣的閾值曲線的擬合方法、黑矩陣的評估方法有效
| 申請號: | 201910364010.6 | 申請日: | 2019-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN109920356B | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發明(設計)人: | 王永垚;蘇秋杰;高玉杰;朱寧;繆應蒙 | 申請(專利權)人: | 北京京東方顯示技術有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G09G3/00 | 分類號: | G09G3/00 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100176 北京市大興*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 評估 矩陣 閾值 曲線 擬合 方法 | ||
1.一種用于評估黑矩陣的閾值曲線的擬合方法,其特征在于,包括:
根據多個樣品顯示面板中每個樣品的黑矩陣包括的多個沿第一方向延伸的遮光條的寬度、亞像素的寬度,計算得到每個樣品的對比敏感度值;其中,多個所述樣品中的沿所述第一方向延伸的所述遮光條均具有N種寬度,N≥2;至少部分所述樣品中所述遮光條的寬度,與其他所述樣品中所述遮光條的寬度不完全相等;所述第一方向為每個所述樣品的長度方向,或者,所述第一方向為每個所述樣品的寬度方向;
根據多個所述樣品以及不同的觀測距離,計算得到在不同觀測距離下所述樣品對應的空間頻率值;針對每個所述樣品,將在同一環境亮度以及對應的觀測距離下,人眼觀測所述樣品的暗線的可見或不可見情況,標注在以空間頻率為橫坐標,對比敏感度值為縱坐標的坐標系中;
擬合閾值曲線,使用于標識可見情況的坐標點和用于標識不可見情況的坐標點分別位于所述閾值曲線的兩側;
其中,根據每個所述樣品的黑矩陣包括的多個沿所述第一方向延伸的所述遮光條的寬度、亞像素的寬度,計算得到每個所述樣品的對比敏感度值,包括:
針對每個所述樣品,根據所述樣品的黑矩陣包括的多個沿所述第一方向延伸的所述遮光條的寬度、亞像素的寬度,以及所述樣品中不同顏色的亞像素的亮度比,得到與所述樣品對應的連續的亮度分布曲線;所述亮度分布曲線的橫坐標為寬度,縱坐標為亮度;
根據所述亮度分布曲線,得到與所述樣品對應的頻域譜;
根據所述樣品的頻域譜中的暗線周期對應的絕對空間頻率的分量譜值以及直流分量譜值,計算得到所述樣品的對比敏感度值;
其中,所述對比敏感度值=(所述樣品的頻域譜中的暗線周期對應的絕對空間頻率的分量譜值/直流分量譜值)×2×100%。
2.根據權利要求1所述的用于評估黑矩陣的閾值曲線的擬合方法,其特征在于,根據所述樣品的黑矩陣包括的多個沿所述第一方向延伸的遮光條的寬度、亞像素的寬度,以及所述樣品中不同顏色的亞像素的亮度比,得到與所述樣品對應的亮度分布曲線,包括:
根據所述樣品的黑矩陣包括的多個沿所述第一方向延伸的所述遮光條的寬度、亞像素的寬度,得到所述樣品的黑矩陣包括的多個沿所述第一方向延伸的所述遮光條的寬度以及亞像素寬度的整數比值;
根據所述樣品的黑矩陣包括的多個沿所述第一方向延伸的所述遮光條寬度以及亞像素寬度的整數比值、所述樣品中不同顏色的亞像素的亮度比,得到與所述樣品對應的亮度分布曲線。
3.根據權利要求1或2所述的用于評估黑矩陣的閾值曲線的擬合方法,其特征在于,所述不同顏色包括第一顏色、第二顏色和第三顏色,且第一顏色、第二顏色和第三顏色為三基色;
所述樣品中不同顏色的亞像素的亮度比,通過在單色第一顏色且灰階為中間灰階、單色第二顏色且灰階為中間灰階、單色第三顏色且灰階為中間灰階下,測試的所述樣品的亮度值得到。
4.根據權利要求1或2所述的用于評估黑矩陣的閾值曲線的擬合方法,其特征在于,根據所述亮度分布曲線,得到與所述樣品對應的頻域譜,包括:
對所述亮度分布曲線進行采樣,并將采樣間隔對應的絕對空間頻率作為采樣頻率;
調用快速傅里葉變換函數,進行快速傅里葉變換,得到與所述樣品對應的頻域譜。
5.根據權利要求1所述的用于評估黑矩陣的閾值曲線的擬合方法,其特征在于,
針對每個所述樣品,根據公式計算得到在對應的觀測距離下所述樣品的空間頻率值;
其中,CPD為所述空間頻率值,l為在該觀測距離下人眼所能觀測到的所述樣品的所述暗線的個數與所述暗線的間距的乘積,t為相鄰所述暗線的間距,d為所述觀測距離。
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