[發(fā)明專利]一種手機(jī)后蓋的彩色鍍膜在審
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910361306.2 | 申請(qǐng)日: | 2019-04-30 |
公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111850491A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-10-30 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭田光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中光科技(福建)有限公司 |
主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/58 |
代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
地址: | 351100 福建*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 一種 手機(jī) 彩色 鍍膜 | ||
本發(fā)明屬于彩色鍍膜領(lǐng)域,尤其公開(kāi)了一種手機(jī)后蓋的彩色鍍膜,現(xiàn)提出如下方案,由以下重量份的原料組成:Nb2O5靶材濺射材料6.0?7.0份、SiO2靶材濺射材料48.0?52.0份、絲印黑色油墨100?1000份;該彩色鍍膜的具體鍍膜方法如下:設(shè)置磁控濺射真空鍍膜系統(tǒng)的參數(shù),控制所需的顏色膜系搭配膜厚比,連續(xù)濺射三層靶材濺射材料,其中,第一層濺射Nb2O5靶材濺射材料,第二層濺射SiO2靶材濺射材料,第三層濺射Nb2O5靶材濺射材料,在濺射鍍膜后,在完成鍍膜后的手機(jī)后蓋基板上上絲印黑色油墨。本發(fā)明通過(guò)不同膜厚比在絲印黑色油墨上可顯示不同的顏色,成分簡(jiǎn)單,成本低,可以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及彩色鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種手機(jī)后蓋的彩色鍍膜。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的真空鍍膜工藝只能在真空鍍膜單體機(jī)上工作,只能進(jìn)行小批量生產(chǎn),而真空磁控連續(xù)性能進(jìn)行大批量連續(xù)性生產(chǎn)的彩色鍍膜,現(xiàn)有的彩色鍍膜成分復(fù)雜,為此,本發(fā)明提出一種手機(jī)后蓋的彩色鍍膜。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn),而提出的一種手機(jī)后蓋的彩色鍍膜。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:
一種手機(jī)后蓋的彩色鍍膜,由以下重量份的原料組成:Nb2O5靶材濺射材料6.0-7.0份、SiO2靶材濺射材料48.0-52.0份、絲印黑色油墨100-1000份;該彩色鍍膜的具體鍍膜方法如下:
S1,首先準(zhǔn)備磁控濺射真空鍍膜系統(tǒng),將上述重量份的Nb2O5靶材濺射材料、SiO2靶材濺射材料安裝在磁控濺射真空鍍膜系統(tǒng)中,然后準(zhǔn)備手機(jī)后蓋基板,也將手機(jī)后蓋基板安裝在磁控濺射真空鍍膜系統(tǒng)中;
S2,設(shè)置磁控濺射真空鍍膜系統(tǒng)的參數(shù),控制所需的顏色膜系搭配膜厚比,連續(xù)濺射三層靶材濺射材料,其中,第一層濺射Nb2O5靶材濺射材料,第二層濺射SiO2靶材濺射材料,第三層濺射Nb2O5靶材濺射材料;
S3,在濺射鍍膜后,在完成鍍膜后的手機(jī)后蓋基板上上絲印黑色油墨;待油墨干燥后,手機(jī)后蓋的彩色鍍膜完成。
優(yōu)選的,由以下重量份的原料組成:Nb2O5靶材濺射材料6.3-6.7份、SiO2靶材濺射材料49.0-51.0份、絲印黑色油墨300-700份。
優(yōu)選的,由以下重量份的原料組成:Nb2O5靶材濺射材料6.5份、SiO2靶材濺射材料50.0份、絲印黑色油墨550份。
優(yōu)選的,所述手機(jī)后蓋基板采用PC符合板材。
優(yōu)選的,所述第一層鍍膜的厚度為2.8-3.2nm,第二層鍍膜的厚度為48-52nm,第三鍍膜的厚度為3.2-3.8nm。
優(yōu)選的,所述第一層鍍膜的厚度為3.0nm,第二層鍍膜的厚度為50nm,第三鍍膜的厚度為3.5nm。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:通過(guò)不同膜厚比在絲印黑色油墨上可顯示不同的顏色,成分簡(jiǎn)單,成本低,可以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。
具體實(shí)施方式
下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理