[發明專利]有機發光二極管顯示裝置及其制作方法

在審

• 申請號: 201910361105.2
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN110061150A
• 公開（公告）日: 2019-07-26
• 發明（設計）人: 黃靜;徐湘倫
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發明提供一種有機發光二極管顯示裝置及其制作方法。有機發光二極管顯示裝置，包括層疊設置的陣列基板、發光層和封裝層，其中封裝層包括層疊設置的第一無機薄膜層、第一金屬薄膜層、有機薄膜層、第二金屬薄膜層和第二無機薄膜層。有機發光二極管顯示裝置的制作方法包括步驟：制作有機發光二極管、制作第一無機薄膜層、制作第一金屬薄膜層、制作有機薄膜層、制作第二金屬薄膜層和制作第二無機薄膜層。本發明可以有效改善有機薄膜層和無機薄膜層間的結合力，保證具有良好的水氧阻隔性能和抗彎折能力。

技術領域

本發明涉及顯示領域，尤其涉及一種有機發光二極管顯示裝置及其制作方法。

背景技術

有機發光二極管(Organic Light Emitting Diode，OLED)顯示裝置具有驅動電壓低、發光效率高、易于柔性兼容等諸多優點，被業界公認為是最有發展潛力的顯示技術之一。但由于器件廣泛采用對水氧敏感的有機材料，為了防止其受到水氧侵蝕，需要采取有效的封裝手段。目前針對有機發光二極管顯示器件較為成熟的封裝方法為利用金屬、玻璃蓋板進行封裝，但其無法適應柔性顯示的發展需求。薄膜封裝被認為是柔性顯示取得突破的關鍵所在。無機金屬氧化物薄膜具有良好的水汽和氧氣阻隔性能，但其抗彎折性能差；有機薄膜具有良好的可延展性能，但阻隔能力不佳。相較而言，以鋁為代表的某些純金屬薄膜具有良好的力學性能和水氧阻隔性能，有望實現其在柔性電子器件封裝上的應用。

針對于純金屬薄膜的制備，現有的物理氣相沉積(蒸鍍、磁控濺射)手段成膜厚度難以精確控制，且薄膜缺陷位點(針孔等)密度大，并不適用于柔性顯示器件的封裝。盡管金屬薄膜具有良好的水氧阻隔性能，但將其直接鍍覆于器件表面時，易導致器件加載電壓是形成短路。且單一的無機金屬氧化物薄膜盡管具有一定的阻隔性能，但其抗彎折性能較差，更易由于應力集中產生裂紋，導致水氧的快速侵蝕而失效。因此，單獨的無機膜層和金屬膜層各有缺陷。

另外，現有封裝層結構一般采用無機層-有機層-無機層交疊的形式。新興的原子層沉積技術(ALD)可用于制備納米級別的無機金屬氧化物薄膜作為無機層，且制造的薄膜保形性好、臺階覆蓋率高，已被廣泛應用于大規模半導體制造領域。無機金屬氧化物薄膜盡管具有一定的阻隔性能，但其抗彎折性能較差，更易由于應力集中產生裂紋，導致水氧的快速侵蝕而失效。并且無機層與有機層的結合力差，封裝層結構穩定性差。

發明內容

為了解決上述問題，本發明提供一種有機發光二極管顯示裝置，包括層疊設置的陣列基板、發光層和封裝層，其中所述封裝層包括層疊設置的第一無機薄膜層、第一金屬薄膜層、有機薄膜層、第二金屬薄膜層和第二無機薄膜層。具體地講，所述發光層位于所述陣列基板上；所述封裝層位于所述發光層背離所述陣列基板一側；所述第一金屬薄膜層位于所述第一無機薄膜層上；所述有機薄膜層位于所述第一金屬薄膜層上；所述第二金屬薄膜層位于所述有機薄膜層上；所述第二無機薄膜層位于所述第二金屬薄膜層上。

進一步的，其中所述第一無機薄膜層和所述第二無機薄膜層通過原子層沉積方式制備。

進一步的，其中所述第一金屬薄膜層和所述第二金屬薄膜層的材料包括鋁。

進一步的，其中所述第一金屬薄膜層和所述第二金屬薄膜層的厚度范圍為50-150nm。

進一步的，其中所述有機薄膜層內包括摻雜顆粒，所述摻雜顆粒包括干燥劑顆粒和偶聯劑。

本發明還提供一種有機發光二極管顯示裝置的制作方法，包括以下步驟：

制作有機發光二極管，其為提供一陣列基板，在所述陣列基板上制作發光層，所述陣列基板及所述發光層形成有機發光二極管；

制作第一無機薄膜層，其為在所述有機發光二極管的發光層背離所述陣列基板的一側的表面上通過原子層沉積方式制備第一無機薄膜層；

制作第一金屬薄膜層，其為在所述第一無機薄膜層上制備第一金屬薄膜層；