[發(fā)明專利]一種基于微結(jié)構(gòu)的非陣列動態(tài)顯示防偽圖形的設(shè)計方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910355637.5 | 申請日： | 2019-04-29 |
| 公開（公告）號： | CN110133847B | 公開（公告）日： | 2020-10-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黃鵬;何傳王;董小春;范斌 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00;G09F3/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 610209 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 微結(jié)構(gòu) 陣列 動態(tài) 顯示 防偽 圖形 設(shè)計 方法 | ||
1.一種基于微結(jié)構(gòu)的非陣列動態(tài)顯示防偽圖形的設(shè)計方法，其特征在于：包括如下步驟：
步驟(1)、微圖形陣列的設(shè)計：原始微圖形陣列周期為t，單元圖形寬和高分別為w和h；
步驟(2)、微圖形陣列單元的放大：單元圖形的寬w和高h(yuǎn)分別放大為W和H；
步驟(3)、對微圖形陣列單元像素的采集：采用一個與微透鏡陣列單元孔徑大小相同的孔對放大后的微圖形單元進(jìn)行采集；從放大圖形的左下角或右上角開始采集，實際的起點取決于微透鏡陣列的周期與微圖形陣列的周期大小；當(dāng)微圖形陣列周期t小于微透鏡陣列周期p時，采集過程的起點為放大的微圖形單元的左下角；當(dāng)微圖形陣列周期t大于微透鏡陣列周期p時，采集過程的起點為放大的微圖形單元的右上角；每采集一次，采集的位置移動預(yù)定的距離，直到圖形的所有位置都被采集到為止；采集孔在水平方向和豎直方向每次移動預(yù)定的距離分別為：
Δh＝(i-1)·(p-t)
Δv＝(j-1)·(p-t)
其中，i，j均為正整數(shù)；
步驟(4)、將每次采集到的圖形按照微透鏡陣列的排布方式重新排布。
2.如權(quán)利要求1所述的基于微結(jié)構(gòu)的非陣列動態(tài)顯示防偽圖形的設(shè)計方法，其特征在于：將每次采集到的圖形按照微透鏡陣列的排布方式重新排布具體步驟為：每次采集過后，留在四邊形采集孔中的圖形bij將被放置于一個新的周期陣列中，其周期大小與微透鏡陣列的周期大小一致，其中的bij放置在新的陣列中對應(yīng)位置的坐標(biāo)為：
bij＝(p·(i-1),p·(j-1))
其中，i，j均為正整數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所，未經(jīng)中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910355637.5/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
