[發明專利]一種高拋光預硬化模具鋼及其制備工藝在審
| 申請號: | 201910355600.2 | 申請日: | 2019-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN110438394A | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發明(設計)人: | 周青春;徐衛明;顧金才;葛建輝;錢強;趙博偉;錢峰;宋小亮;丁勇 | 申請(專利權)人: | 如皋市宏茂重型鍛壓有限公司 |
| 主分類號: | C22C38/02 | 分類號: | C22C38/02;C22C38/04;C22C38/54;C21D8/00 |
| 代理公司: | 北京一格知識產權代理事務所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生 |
| 地址: | 226500 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 預硬化模具鋼 拋光 制備工藝 模具鋼 熱加工 鍛后熱處理 質量百分比 熱處理 刻蝕性能 拋光性能 制備過程 淬透性 低成本 高硬度 多向 澆濤 鋸切 皮紋 熱送 鍛造 冶煉 | ||
本發明涉及一種高拋光預硬化模具鋼及其制備工藝,該高拋光預硬化模具鋼采用的組成成分及其質量百分比如下:C≤0.20%,Si 0.80~1.20%,Mn 0.80~1.20%,Cr 1.30~1.60%,Ni 0.30~0.60%,B 0.005~0.01%,P<0.015%,S<0.005%,Fe余量;本發明模具鋼的制備過程如下:配料、冶煉、澆濤,熱送;高溫擴撒熱熱處理,然后多向鍛造熱加工,鍛后熱處理、鋸切。本發明的優點在于:本發明模具鋼具有低成本、高的淬透性、高硬度、高拋光性能和皮紋刻蝕性能。
技術領域
本發明屬于合金鋼技術領域,涉及一種塑膠模具鋼,特別涉及一種高拋光預硬化模具鋼及其制備工藝。
背景技術
隨著我國制造業的迅速發展,對模具的用量越來越大,對模具材料的性能要求也越來越高,尤其是高拋光性能和機加工性能。在汽車制造業、家電、電子通信等的生產均用到模具。這些模具要求要有高的拋光性能和加工性能,目前使用的大多是日本大同NAK80鋼或1.2343鋼等材料來制造這些模具。但是NAK80鋼塑性較差,不適用于型腔復雜或型腔較深的模具,并且對拋光工藝要求嚴格。而1.2343鋼材機加工難度大,模具制造工序多周期長,這將大大增加這些汽車產品的制造成本。特別是2012年以來的全球經濟底迷環境下,節約資源和降低成本是汽車制造業的一大瓶頸。
在這樣的國際國內環境下,因此,開發出低成本高拋光預硬化塑膠模具鋼,以代替進口的NAK80鋼或1.2343模具鋼,是非常有必要的。
針對上述現象,專利CN 107587081 A公開了一種高拋光預硬化模具鋼及其制備工藝,該高拋光預硬化模具鋼采用的組成成分及其質量百分比如下:C 0.21~0.25%,Si ≤0.30%,Mn 1.40~2.00%,Cr 1.30~1.70%,Ni 0.60~1.00%,Mo 0.40~0.60%,V ≤0.10%,P<0.015%,S<0.005%,Nb 0.02~0.04%,Fe余量;該發明模具鋼的制備過程如下:配料、冶煉、澆濤,熱送;高溫擴撒熱熱處理,然后多向鍛造熱加工,鍛后熱處理、鋸切;最后進行調質熱處理,獲得硬度38~42HRC的回火馬氏體組織,且制備的模具鋼具有低成本、高的淬透性、高硬度、高拋光性能和皮紋刻蝕性能;但是,與本發明鋼種相比,該發明專利仍存在一定的缺點:首先,該鋼種Ni和Mo含量均較高,相應的制造成本就較高,尤其是冶煉成本;其次,由于該鋼種合金元素C、Cr、Ni、Mo較高,成分偏析嚴重,其成品模具鋼硬度均勻性和拋光性能比本發明鋼種差,不適合于制作拋光要求更高的模具,如車燈摸等。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種低成本、鋼硬度均勻性和拋光性能好的高拋光預硬化模具鋼及其制備工藝。
為解決上述技術問題,本發明的技術方案為:一種高拋光預硬化模具鋼,其創新點在于:所述高拋光預硬化模具鋼采用的組成成分及其質量百分比如下:C ≤0.20%,Si 0.80~1.20%,Mn 0.80~1.20%,Cr 1.30~1.60%,Ni 0.30~0.60%,B 0.005~0.01%,P<0.015%,S<0.005%,Fe余量。
進一步地,所述高拋光預硬化模具鋼采用的組成成分及其最佳質量百分比如下:C0.18%,Si 0.90%,Mn 1.00%,Cr 1.40%,Ni 0.50%,B 0.006,P<0.012%,S<0.003%,Fe余量。
一種上述的高拋光預硬化模具鋼的制備工藝,其創新點在于:所述制備工藝包括如下步驟:
(1)冶煉:按高拋光預硬化模具鋼的組成成分及其質量百分比進行配料、電弧爐冶煉和精煉、然后進行真空脫氣和澆鑄,最后脫模熱送鍛造加熱爐;
(2)高溫擴散熱處理:加熱升溫至1180~1250℃,到溫均溫后保溫時間為10~20h;
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