[發明專利]一種基于雙源雙頻的射頻加熱控制方法及射頻加熱裝置

有效

• 申請號: 201910353187.6
• 申請日: 2019-04-29
• 公開（公告）號: CN111867169B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 賈曉蕓;李性浩;勞春峰;賀立軍;代金杰
• 申請（專利權）人: 青島海爾智能技術研發有限公司;海爾智家股份有限公司
• 主分類號: H05B6/06
• 分類號: H05B6/06;H05B6/68
• 代理公司: 青島聯智專利商標事務所有限公司 37101
• 代理人: 邵新華

本發明公開了一種基于雙源雙頻的射頻加熱控制方法及射頻加熱裝置，包括：控制第一射頻加熱模塊以第一頻段發射電磁波；控制第二射頻加熱模塊以第二頻段發射電磁波；在此期間兩個射頻加熱模塊分別調節其發射的電磁波的相位。本發明設計兩個射頻加熱模塊以不同工作頻段發射電磁波，共同對食品進行加熱或烹飪，由此不僅可以使兩個頻段的電磁波特性互補，解決了利用單一頻段的電磁波加熱食物所存在的加熱深度不夠、加熱不均的問題，而且可以顯著提高加熱效率。同時，通過不斷調整兩個射頻加熱模塊發射的電磁波的相位，可以使得加熱腔內的熱量分布更均勻，進而可以進一步提升射頻加熱裝置的加熱品質，改善用戶體驗。

技術領域

本發明屬于加熱裝置技術領域，涉及一種射頻加熱技術，具體地說，是涉及一種應用于射頻加熱裝置的加熱控制技術。

背景技術

隨著射頻技術的快速發展和日臻成熟，基于射頻加熱技術設計的加熱裝置（例如電烤箱、微波爐等）應運而生并漸受關注。射頻加熱技術作為以磁控管為發射源的微波加熱技術的升級版，是一種利用固態半導體源發射的電磁波來加熱食物的技術。這種固態半導體源可以對其發射的電磁波的功率、頻率、相位實現有效地調節和控制，從而更有利于提升加熱裝置的加熱品質。

但是，目前的射頻加熱裝置，其通過裝置內部的射頻加熱模塊發射的電磁波都是單一頻段、單一相位的。單一頻段、單一相位的電磁波在加熱食物時，會存在諸如加熱深度不夠、加熱不均、加熱效率低等不足，繼而導致食物的加熱品質受到影響。

此外，在射頻加熱模塊工作期間，目前的射頻加熱裝置無法感知射頻加熱模塊是否按照預定功率正常運行。若在用戶設定的加熱時間或用戶選定的烹飪程序運行期間，射頻加熱模塊沒有按照預定功率正常運行，則會出現食物過度烹飪或不熟等情況，嚴重影響了用戶的使用體驗。

發明內容

本發明的目的在于提供一種基于雙源雙頻的射頻加熱控制技術，旨在解決現有的射頻加熱裝置因發射的電磁波的頻率單一、相位單一而導致的食物加熱深度不夠、加熱不均、加熱效率低的問題。

為解決上述技術問題，本發明采用以下技術方案予以實現：

在一個方面，本發明提出了一種基于雙源雙頻的射頻加熱控制方法，包括：控制第一射頻加熱模塊以第一頻段發射電磁波；控制第二射頻加熱模塊以第二頻段發射電磁波；在第一射頻加熱模塊以第一頻段發射電磁波、并且第二射頻加熱模塊以第二頻段發射電磁波的期間，兩個射頻加熱模塊分別選用以下相位調整模式之一來調節其發射的電磁波的相位：

模式一、以t1+t2為相位調整周期，在每一個相位調整周期內，控制射頻加熱模塊在t1時段發射相位在設定區間變化的電磁波，并接收反射回的電磁波，選擇能量被吸收最多的電磁波所對應的相位作為最佳相位，并在t2時段以所述最佳相位發射電磁波；

模式二、控制射頻加熱模塊以M為相位調整周期，逐周期增大或縮小電磁波的相位，使電磁波的相位在設定的最小值與最大值之間循環變化。

為了獲得更好的加熱品質，本發明優選設置第一射頻加熱模塊工作在中頻區，第二射頻加熱模塊工作在高頻區。即，

在控制第一射頻加熱模塊以第一頻段發射電磁波的過程中，首先，以915MHz為中心頻率設置發射頻率的帶寬范圍A；其次，以T11+T12為頻率調整周期，且在每一個頻率調整周期內執行以下過程：在T11時段，控制第一射頻加熱模塊發射頻率在所述帶寬范圍A內變化的電磁波，并接收反射回的電磁波，選擇能量被吸收最多的電磁波所對應的頻率作為最佳頻率F1；在T12時段，控制第一射頻加熱模塊以所述最佳頻率F1發射電磁波。