[發明專利]一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置

在審

• 申請號: 201910352942.9
• 申請日: 2019-04-29
• 公開（公告）號: CN110004428A
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發明（設計）人: 朱剛毅;朱剛勁;朱文廓
• 申請（專利權）人: 廣東騰勝科技創新有限公司
• 主分類號: C23C14/58
• 分類號: C23C14/58;C23C16/46;C23C16/56
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 官國鵬

1.一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，鍍膜設備包括傳動機構、放置在傳動機構上的托盤；磁材放置在托盤上；其特征在于：降溫裝置包括位于托盤下方的水冷擋板，升降機構，軟管；水冷擋板安裝在升降機構的輸出端，水冷擋板內設有冷卻槽，冷卻槽的出口處和入口處均安裝有接頭，軟管與接頭相連接，軟管和冷卻槽內通有冷媒。

2.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：傳動機構包括多根沿著縱向依次排列的傳動輥，傳動輥的軸線沿著橫向設置，托盤放置在傳動輥上，相鄰兩個傳動輥之間設置一個水冷擋板。

3.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：傳動機構有兩個，托盤的一端放置在其中一個傳動機構上，托盤的另一端放置在另一個傳動機構上，水冷擋板位于兩個傳動機構之間。

4.按照權利要求3所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：兩個傳動機構均包括多根沿著縱向依次排列的傳動輥。

5.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：冷卻槽的截面形狀為矩形、圓形或者異形。

6.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：托盤為金屬托盤，托盤由不銹鋼、鋁合金或鈦合金制成。

7.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：升降機構為電動升降機構、氣動升降機構或液壓升降機構。

8.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：升降機構為液壓缸，水冷擋板安裝在液壓缸的活塞上，液壓缸位于水冷擋板的下方。

9.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：軟管為波紋管。

10.按照權利要求1所述的一種應用在磁材真空鍍膜設備上的快速降溫裝置，其特征在于：磁材為釹鐵硼永磁材。