[發明專利]等離子沉積設備及其應用方法

在審

• 申請號: 201910351805.3
• 申請日: 2019-04-28
• 公開（公告）號: CN111847863A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 丁杰;沈一春;錢宜剛;范艷層
• 申請（專利權）人: 中天科技精密材料有限公司
• 主分類號: C03B37/018
• 分類號: C03B37/018
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 劉麗華;孫芬

1.一種等離子沉積設備，用于對靶棒進行沉積處理，其特征在于：包括支架、安裝于所述支架上的傳動組件、若干溫控組件及等離子組件，所述傳動組件與所述靶棒連接，所述溫控組件安裝于所述靶棒周側，以控制所述靶棒溫度，所述等離子組件一端靠近所述靶棒，以對所述靶棒進行沉積處理。

2.根據權利要求1所述的等離子沉積設備，其特征在于：每一所述溫控組件包括殼體及若干進氣管，所述殼體兩端設有開口，以容許所述靶棒穿過，所述進氣管一端連通于所述殼體側壁，另一端用于通入冷卻氣體。

3.根據權利要求2所述的等離子沉積設備，其特征在于：每一所述溫控組件上的進氣管數量根據所述靶棒的長度設計，所述進氣管沿所述殼體長度方向依次排列。

4.根據權利要求2所述的等離子沉積設備，其特征在于：所述溫控組件之間的靶棒所在區域形成沉積區，所述進氣管氣體流量沿著遠離所述沉積區的方向依次遞減，以使每一所述溫控組件內的氣流向所述沉積區方向移動。

5.根據權利要求1所述的等離子沉積設備，其特征在于：所述等離子沉積設備還包括固定架及多個承載支架，所述固定架沿長度方向設有導軌，所述承載支架可移動的安裝于所述固定架的導軌上。

6.根據權利要求5所述的等離子沉積設備，其特征在于：所述承載支架上分別安裝有所述傳動組件、溫控組件及等離子組件，以使所述傳動組件、溫控組件及等離子組件能夠沿所述固定架長度方向移動。

7.根據權利要求1所述的等離子沉積設備，其特征在于：所述等離子沉積設備還包括抽風組件，所述抽風組件與所述等離子組件分別安裝于所述靶棒徑向相對的兩側。

8.一種應用如權利要求1至7中任一項中所述等離子沉積設備的應用方法，其特征在于，所述的方法步驟如下：

S1，將靶棒固定于傳動組件一端；

S2，將溫控組件安裝于所述靶棒兩端，等離子組件及抽風組件分別安裝于靶棒相對的兩側；

S3，在等離子組件中通入載氣、原料及等離子氣體；

S4，啟動點火組件及傳動組件；

S5，在溫控組件中通入冷卻氣體，靶棒直徑沉積到設定長度后停止點火組件及傳動組件。

9.根據權利要求8所述的等離子沉積設備的應用方法，其特征在于，所述載氣及原料包括氟化物，通過調節所述氟化物的通入量能夠實時控制所述靶棒的摻氟深度。

10.根據權利要求8所述的等離子沉積設備的應用方法，其特征在于，所述冷卻氣體為氮氣、壓縮空氣及氦氣中的一種或多種。