[發(fā)明專利]一種預(yù)清洗方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910349953.1
• 申請(qǐng)日: 2019-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN111863591A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 師帥濤;王文章
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td>

1.一種預(yù)清洗方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：向反應(yīng)腔室內(nèi)通入流量為第一流量值的工藝氣體，并使所述反應(yīng)腔室內(nèi)的壓力達(dá)到第一壓力值；

S2：開啟上射頻功率源和下射頻功率源，并設(shè)置所述上射頻功率源和下射頻功率源的輸出功率分別為第一上射頻功率和第一下射頻功率，以使所述工藝氣體起輝；

S3：將所述工藝氣體的流量減小為第二流量值，并使所述反應(yīng)腔室內(nèi)的壓力減小為第二壓力值；

S4：設(shè)置所述上射頻功率源和下射頻功率源的輸出功率分別為第二上射頻功率和第二下射頻功率，以對(duì)被加工工件進(jìn)行刻蝕。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第一壓力值的范圍為6～8mTorr。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第一流量值的范圍為100～200sccm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第二壓力值的范圍為0.6～0.8mTorr。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第二流量值的范圍為2～10sccm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第一下射頻功率小于所述第二下射頻功率。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第一下射頻功率的范圍為20～70W。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第二下射頻功率的范圍為100～600W。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，還包括以下步驟：

S5：設(shè)置所述下射頻功率源的輸出功率為第三下射頻功率，其中，所述第三下射頻功率小于所述第二下射頻功率。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第三下射頻功率的范圍為1～10W。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，還包括以下步驟：

S6：關(guān)閉所述上射頻功率源和所述下射頻功率源；并向所述反應(yīng)腔室內(nèi)通入流量為第三流量值的冷卻氣體，以對(duì)所述被加工工件進(jìn)行冷卻。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的預(yù)清洗方法，其特征在于，所述第三流量值的范圍為200～500sccm。