[發(fā)明專利]一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910344843.6 | 申請日: | 2019-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN110058434A | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉黎明;遲鋒;張小文;易子川;張智;吳艷花 | 申請(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué)中山學(xué)院 |
| 主分類號: | G02F1/017 | 分類號: | G02F1/017;G02B5/00 |
| 代理公司: | 重慶萃智邦成專利代理事務(wù)所(普通合伙) 50231 | 代理人: | 竺棟 |
| 地址: | 528402 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光源結(jié)構(gòu) 表面等離激元 金屬膜 電驅(qū)動 發(fā)光層 多層結(jié)構(gòu) 穿孔 孔洞 防塵效果 光源效果 保護(hù)膜 均勻性 防水 光源 擴(kuò)散 傳播 | ||
1.一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:包括由第一金屬膜(1)、發(fā)光層(2)、第二金屬膜(3)構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu);所述第一金屬膜(1)的上方設(shè)置有發(fā)光層(2),所述發(fā)光層(2)的上方設(shè)置有第二金屬膜(3);所述多層結(jié)構(gòu)上設(shè)置有穿孔(4)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述穿孔(4)位于第一金屬膜(1)、第二金屬膜(3)的部分內(nèi)部填充有透明填充物(5)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一金屬膜(1)的下表面設(shè)置有保護(hù)膜(8);所述第二金屬膜(3)的上表面同樣設(shè)置有保護(hù)膜(8)。
4.如權(quán)利要求1所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述穿孔(4)是設(shè)置于第二金屬膜(1)、發(fā)光層(2)上的孔洞(7)。
5.如權(quán)利要求4所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述孔洞(7)位于第二金屬膜(3)的部分內(nèi)部填充有第二透明填充物(6)。
6.如權(quán)利要求4所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一金屬膜(1)的下表面設(shè)置有第二保護(hù)膜(9);所述第二金屬膜(3)的上表面同樣設(shè)置有第二保護(hù)膜(9)。
7.如權(quán)利要求1所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述發(fā)光層(2)為量子阱層。
8.如權(quán)利要求7所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述量子阱層為GaAs或InGaAs制成。
9.如權(quán)利要求7所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述量發(fā)光層(5)的厚度為50nm~80nm。
10.如權(quán)利要求1所述的一種電驅(qū)動表面等離激元光源結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第一金屬膜(1)、第二金屬膜(3)均是由金或銀或銅制成。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





