[發明專利]一種頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器及其制造方法有效
| 申請號: | 201910343763.9 | 申請日: | 2019-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN110011068B | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | 王俊林;王鑫 | 申請(專利權)人: | 內蒙古大學 |
| 主分類號: | H01Q17/00 | 分類號: | H01Q17/00;G02B5/00;G02B1/00 |
| 代理公司: | 合肥市澤信專利代理事務所(普通合伙) 34144 | 代理人: | 方榮肖 |
| 地址: | 010021 內蒙古自*** | 國省代碼: | 內蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 頻率 主動 調諧 赫茲 材料 吸波器 及其 制造 方法 | ||
1.一種頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其包括:
底層結構(1),其包括至少一層金屬薄膜;
中間介質層(2),其固定在底層結構(1)上;中間介質層(2)與底層結構(1)相連的兩個端面重合;以及
頂層諧振結構(3),其固定在中間介質層(2)上;
其特征在于,頂層諧振結構(3)包括呈陣列排布的多個金屬諧振結構(5);多個金屬諧振結構(5)均固定在中間介質層(2)遠離底層結構(1)的同一端面上;每個金屬諧振結構(5)內部設置諧振腔(4),諧振腔(4)與對應的金屬諧振結構(5)均呈十字形且中心重合;
所述金屬薄膜和金屬諧振結構(5)均由銅制得,中間介質層(2)由柔性PDMS材料制得,諧振腔(4)內填充SrTiO3材料。
2.如權利要求1所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,底層結構(1)和中間介質層(2)均呈矩形,中間介質層(2)的厚度大于底層結構(1)的厚度。
3.如權利要求2所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,多個金屬諧振結構(5)等間距分布,每個金屬諧振結構(5)的相對兩端沿著中間介質層(2)的長度方向或寬度方向設置。
4.如權利要求1所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,每個金屬諧振結構(5)的四個端部位于同一個圓周一上,每個諧振腔(4)的四個端部位于同一個圓周二上。
5.如權利要求4所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,每個金屬諧振結構(5)相對兩端之間的距離為35um,每個諧振腔(4)相對兩端之間的距離為25um;金屬諧振結構(5)端部的寬度為11um,諧振腔(4)端部的寬度為8um。
6.如權利要求5所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,底層結構(1)的厚度為0.3um,中間介質層(2)的厚度為40um,金屬諧振結構(5)的厚度為0.3um。
7.如權利要求1所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,多個金屬諧振結構(5)排列成正方形矩陣,相鄰的兩個金屬諧振結構(5)之間的距離為55um。
8.如權利要求1所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,所述太赫茲超材料吸波器還包括:
溫控單元,其用于調節頂層諧振結構(3)的溫度。
9.如權利要求1所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,所述太赫茲超材料吸波器應用于隱身裝置、太赫茲成像裝置、微型天線、電磁波探測及調控裝置以及太陽能電池中的一種或多種裝置中。
10.一種頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器的制造方法,其用于制造如權利要求1-9中任意一項所述的頻率可主動調諧的太赫茲超材料吸波器,其特征在于,其包括以下步驟:
根據底層結構(1)的形狀,在基底材料上開挖深度不小于底層結構(1)、中間介質層(2)以及頂層諧振結構(3)的厚度之和的定位槽;
從所述定位槽的底部開始,鍍上至少一層金屬薄膜,并在金屬薄膜定型后,向所述定位槽內灌入呈液態的柔性PDMS材料,以形成中間介質層(2);
在每個金屬諧振結構(5)內開設對應的諧振腔(4),將SrTiO3材料填滿諧振腔(4)中;
在中間介質層(2)上劃出呈陣列排布的多個定位區域,多個定位區域分別與多個金屬諧振結構(5)對應;
先依次將多個金屬諧振結構(5)固定至對應的多個定位區域上,再對底層結構(1)、中間介質層(2)以及頂層諧振結構(3)進行老化處理。
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