[發明專利]用于添加式地制造三維物體的裝置在審
| 申請號: | 201910343692.2 | 申請日: | 2019-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN110406100A | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發明(設計)人: | 托拜厄斯·博克凱斯;澤爾納·費邊 | 申請(專利權)人: | CL產權管理有限公司 |
| 主分類號: | B29C64/153 | 分類號: | B29C64/153;B29C64/264;B29C64/386;B33Y30/00;B33Y50/00 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 德國利希*** | 國省代碼: | 德國;DE |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 能量束 適配 反射 構建材料 確定單元 三維物體 固結 選擇性照射 參考參數 分層 構建 制造 | ||
1.一種用于借助于連續分層選擇性照射并固結構建材料(3)的層來添加式地制造三維物體(2)的裝置(1),所述構建材料(3)的層能夠借助于能量束(5)來被固結,所述裝置(1)包含確定設備(8),所述確定設備(8)被適配成確定與所述能量束(5)有關的至少一個參數,其特征在于,所述確定設備(8)包含至少一個確定單元(9),所述至少一個確定單元(9)被適配成確定所述能量束(5)的反射部分(10)的至少一個第一參數,其中,所述確定設備(8)被適配成確定參考參數與所述反射部分(10)的所述至少一個第一參數之間的差異。
2.如權利要求1所述的裝置,其特征在于,限定或確定所述參考參數。
3.如權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述確定設備(8)被適配成確定所述能量束(5)的至少一個初始部分(12)的第二參數,并且適配成確定所述能量束(5)的所述反射部分(10)的至少一個第一參數。
4.如權利要求3所述的裝置,其特征在于,所述確定設備(8)包含至少一個第一確定單元(9)和至少一個第二確定單元(11),所述至少一個第一確定單元(9)被適配成確定所述能量束(5)的所述至少一個反射部分(10)的所述第一參數,所述至少一個第二確定單元(11)被適配成確定所述能量束(5)的所述初始部分(12)的所述至少一個第二參數,其中,所述確定設備(8)被適配成確定所述至少一個反射部分(10)的所述第一參數與所述至少一個初始部分(12)的所述第二參數之間的差異。
5.如在前權利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述第一參數和/或所述第二參數是所述能量束(5)的強度和/或所述構建材料(3)中吸收的吸收強度,或者與所述能量束(5)的強度和/或所述構建材料(3)中吸收的吸收強度有關。
6.如在前權利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述第一參數與布置在所述構建平面(7)中的所述構建材料(3)的形貌信息有關。
7.如在前權利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述確定設備(8)被適配成確定至少一個處理參數,其中,所述確定設備(8)被適配成依據所述處理參數施行所述第一參數的確定。
8.如在前權利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述處理參數是構建材料(3),特別地,是所述構建材料(3)的吸收系數、和/或所述能量束(5)在所述構建平面(7)上的入射角、和/或所述添加式地制造處理中產生的殘余物,或者與構建材料(3)有關,特別地,與所述構建材料(3)的吸收系數、和/或所述能量束(5)在所述構建平面(7)上的入射角、和/或所述添加式地制造處理中產生的殘余物有關。
9.如權利要求3至8中任一項所述的裝置,其特征在于,分束單元(13)被適配成將所述初始部分(12)從所述能量束(5)中分出,其中,所述裝置(1)的照射設備(6)被適配成與所述能量束(5)一起引導所述能量束(5)的所述反射部分(10),并且朝向所述第一確定單元(9)引導所述能量束(5)的所述反射部分(10)通過所述分束單元(13)。
10.如權利要求9所述的裝置,其特征在于,第二分束單元(16)被適配成將所述能量束(5)的所述反射部分(10)與從所述構建平面(7)發出的輻射分離。
11.如權利要求3至10中任一項所述的裝置,其特征在于,所述第一確定單元(9)或第一確定單元(9)被布置在界定處理室(18)的透明壁元件(19)上,所述添加式地制造處理在所述處理室(18)中施行,其中,所述透明壁元件(19)對于所述能量束(5)的所述反射部分(10)是透明的。
12.如在前權利要求中任一項所述的裝置,其特征在于,所述確定設備(8)包含至少一個濾光器單元(14),所述至少一個濾光器單元(14)被適配成過濾與所述能量束(5)不同的波長或波長范圍的輻射,特別是1070nm的輻射。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于CL產權管理有限公司,未經CL產權管理有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910343692.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:鋪粉裝置與3D打印系統
- 下一篇:高穩定性3D打印機





