本發明公開了一種脫除雜芳烴化合物中的亞磺?；姆椒ǎǎ阂允?Ia)或式(Ib)所示的雜芳環亞砜化合物和式(II)所示的三甲基硅基苯基三氟甲磺酸酯為底物，在氟化銫存在下，反應得到式(IIIa)或式(IIIb)所示的脫除亞磺?；碾s環芳烴產物。利用本發明的方法可以快速實現對雜芳環亞砜化合物上亞磺?；拿摮?，該方法不需要安全性較差的金屬催化劑，也不需要毒性較大的有機試劑，安全性更好。同時，本發明的方法，條件溫和，對于一些較為敏感的苯磺酰基、Boc基團具有較強的兼容性，且后處理簡單，適于工業化生產。

技術領域

本發明屬于有機化學合成領域，特別涉及一種脫除雜芳烴化合物中的亞磺酰基的方法。

背景技術

磺酰基或亞磺?；Ｗ鳛橛袡C合成反應中的一類重要保護基。例如在吲哚的2號或者3號位上引入磺?；沁M行吲哚官能化反應時常采用的一種保護策略。脫除這類保護基主要是通過還原脫硫反應得以實現的，包括雷尼鎳還原法和自由基還原法(AIBN-Bu₃SnH)。對于前者，該方法的缺點在于不但官能團兼容性差，而且所用的雷尼鎳通常有一定的危險性。而后者往往需要使用有毒的有機錫試劑。因此，開發一種高效，綠色，安全的脫除磺酰基或亞磺?；男路椒ň哂兄匾默F實意義。

發明內容

為了克服現有技術中存在的缺陷，本發明提供了一種脫除雜芳烴化合物中的亞磺?；男路椒?，具有反應條件溫和、選擇性好，收率高、產物易分離、操作簡單、且不需要使用危險，有毒的化學試劑等優點。

一種脫除雜芳烴化合物中的亞磺?；姆椒ǎǎ阂允?Ia)或式(Ib)所示的雜芳環亞砜化合物和式(II)所示的三甲基硅基苯基三氟甲磺酸酯為底物，在氟化銫存在下，反應得到式(IIIa)或式(IIIb)所示的脫除亞磺?；碾s環芳烴產物：

R₁選自H、鹵素、C1～C4的烷基、C1～C4的烷氧基；

Q選自N、O、S；當Q選擇O、S時，R₂不存在；當Q選自N時，R₂選自H、苯磺?；?、C1～C4烷基苯磺?；1～C4烷氧羰基；

R₃為苯基、C1～C4烷基取代的苯基；

R₄為H、C1～C4烷氧羰基。

反應過程如下式所示：

作為優選，所述R₁選自H、Cl、Br、甲基、乙基、甲氧基；R₂選自H、苯磺?；?、對甲苯磺?；?、叔丁氧羰基；R₃為苯基；R₄為H、叔丁氧羰基。

作為優選，所述雜芳環亞砜化合物選自如下化合物：

作為優選，所述雜芳環亞砜化合物與三甲基硅基苯基三氟甲磺酸酯的摩爾比為1：(1～5)。作為進一步優選，所述雜芳環亞砜化合物與三甲基硅基苯基三氟甲磺酸酯的摩爾比為1：(2～4)。

作為優選，反應在惰性氣體保護下進行，比如可以在氮氣保護下進行。

作為優選，所述雜芳環亞砜化合物與氟化銫的摩爾比為1：(1～5)。作為進一步優選，所述雜芳環亞砜化合物與三甲基硅基苯基三氟甲磺酸酯的摩爾比為1：(2～4)。

作為優選，反應溶劑為二氯甲烷、氯仿、基本、乙腈、丙酮中的一種或多種。

作為優選，反應溫度為10～50℃。進一步優選為室溫。