[發明專利]一種具有光學微結構紋理的手機殼及加工方法在審
| 申請號: | 201910342895.X | 申請日: | 2019-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN110012139A | 公開(公告)日: | 2019-07-12 |
| 發明(設計)人: | 郎歡標 | 申請(專利權)人: | 東莞市美光達光學科技有限公司 |
| 主分類號: | H04M1/02 | 分類號: | H04M1/02;H04M1/18;B29C45/26;B29C33/42 |
| 代理公司: | 北京易捷勝知識產權代理事務所(普通合伙) 11613 | 代理人: | 韓國勝 |
| 地址: | 523000 廣東省東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紋理 微結構 彩虹效果 手機殼 光學微結構 光柵微結構 物品表面 一維漸變 螺旋形 漸變 邊形 二維 多邊形排列 二維周期性 透明光學膠 彩虹全息 二維分布 菲涅爾紋 回復反射 角錐棱鏡 視覺效果 塑料殼體 微納結構 星星點點 彩虹紋 反射膜 黑膠 環紋 加工 放大 視覺 圖案 | ||
1.一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述手機殼包括依次層疊貼合的塑料殼體、透明光學膠、反射膜、以及黑膠,所述塑料殼體的內側表面設置有微結構紋理,所述微結構紋理的下方通過透明光學膠緊貼所述反射膜,所述反射膜用于反射入射光,所述黑膠為黑色油膜層,用于黑色遮光保護;
所述微結構紋理為一維或二維方向周期性陣列的光柵微結構紋理;或者為一維漸變、二維漸變的光柵微結構紋理;或者為環形、螺旋形、4邊形、6邊形、多邊形排列的微結構紋理;或者為視覺上具有放大及縮小功能的菲涅爾紋、環紋微結構紋理、回復反射式的角錐棱鏡微結構紋理;或者為由仿生、仿物品表面的微納結構組成。
2.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述一維漸變、二維漸變的光柵微結構紋理分別用于產生一維分布、二維分布的彩虹效果;所述一維漸變、二維漸變的光柵微結構紋理分別用于產生一維漸變、二維漸變的彩虹效果;所述環形、螺旋形、4邊形、6邊形、多邊形排列的微結構紋理分別用于產生環形的彩虹效果、螺旋形的彩虹效果、4邊形的彩虹效果、6邊形的彩虹效果、多邊形的彩虹效果、星星點點陣列的彩虹效果;所述由仿生、仿物品表面的微納結構組成的微結構紋理用于產生仿物品表面的彩虹紋視覺效果以及特定圖案的彩虹全息效果。
3.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述微結構紋理為微納結構,該維納結構的尺寸及周期為可見光波長的零點幾倍至幾百倍,介于幾十納米至幾百微米的量級。
4.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述微結構紋理對白光的反射具有衍射作用,從而產生彩虹效果。
5.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述塑料殼體的內側表面直接涂覆有反光涂料層。
6.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述塑料殼體的材料為PC、ABS、PET、尼龍或者PMMA,厚度為0.4-0.6mm。
7.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述黑膠的厚度為10至100nm納米。
8.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述反射膜涂有顏色,所述反射膜的厚度為1至15微米。
9.根據權利要求1所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述塑料殼體的內側表面設置有一維方向周期性的微結構紋理,該微結構紋理為具有光學衍射效果的光柵紋理。
10.根據權利要求9所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述一維方向周期性的微結構紋理,該微結構紋理為截面形狀為正弦波形的周期性光柵結構,其沿著手機殼的橫向方向進行排列,略帶圓弧形。
11.根據權利要求9所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述一維方向周期性的微結構紋理,該微結構紋理周期處于幾十納米至幾百微米之間、深度為幾納米至幾十微米之間。
12.根據權利要求9所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述一維方向周期性的微結構紋理,該微結構紋理為弧形的周期性。
13.根據權利要求9所述的一種具有光學微結構紋理的手機殼,其特征在于,所述一維方向周期性的微結構紋理,該微結構紋理為高低凸臺/凹槽周期性光柵結構,所述塑料殼體的下表面設置有直條形的高低凸臺/凹槽的周期性微結構紋理,該微結構紋理為由多段弧面通過小平面連接而成,多段弧面構成反射型光柵,反射光形成垂直于該紋理方向的直的彩虹紋。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東莞市美光達光學科技有限公司,未經東莞市美光達光學科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910342895.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





