[發明專利]刻蝕液、刻蝕組合液以及刻蝕方法

在審

• 申請號: 201910342868.2
• 申請日: 2019-04-24
• 公開（公告）號: CN109930154A
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 趙芬利;秦文;張月紅
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23F1/44
• 分類號: C23F1/44
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種刻蝕液，其特征在于，包括：雙氧水、第一緩沖液、第一螯合劑、調節劑、醇類物質、第一抑制劑以及去離子水。

2.根據權利要求1所述的刻蝕液，其特征在于，

所述雙氧水在所述刻蝕液中的質量百分比范圍為15％-25％；

所述第一緩沖液在所述刻蝕液中的質量百分比范圍為15％-20％；

所述第一螯合劑在所述刻蝕液中的質量百分比范圍為1％-10％；

所述調節劑在所述刻蝕液中的質量百分比范圍為1％-15％；

所述醇類物質在所述刻蝕液中的質量百分比范圍為0.1％-5％；

所述第一抑制劑在所述刻蝕液中的質量百分比范圍為0.01％-1％；

所述去離子水在所述刻蝕液中的質量百分比范圍為24％-67.89％。

3.根據權利要求1所述的刻蝕液，其特征在于，所述第一緩沖液包括醋酸銨-鹽酸-氨溶液、醋酸-乙醇-氫氧化銨、冰醋酸-氨水緩沖液以及枸杞酸-乙醇-氨水緩沖液中的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的刻蝕液，其特征在于，所述第一螯合劑包括殼聚糖、8-羥基喹啉以及酒石酸鉀銨中的一種或多種。

5.根據權利要求1所述的刻蝕液，其特征在于，所述調節劑包括2-氨基-2甲基-1-丙醇、二正丁胺、二乙胺、苯胺以及二苯胺中的一種或多種。

6.根據權利要求1所述的刻蝕液，其特征在于，所述醇類物質包括聚乙二醇、聚丙乙烯二醇、乙醇以及丙二醇中的一種或多種。

7.根據權利要求1所述的刻蝕液，其特征在于，所述第一抑制劑包括3-氨基-1,2,4-三唑、6-硝基苯并咪唑以及2-氨基噻唑中的一種或多種。

8.一種刻蝕組合液，包括如權利要求1-7任意一項所述的刻蝕液以及補給液；

所述補給液包括溶解劑、第二緩沖液、第二螯合劑以及第二抑制劑。

9.根據權利要求8所述的刻蝕組合液，其特征在于，

所述第二緩沖液相對所述刻蝕液的質量百分比范圍為0.1-15％；

所述第二螯合劑相對所述刻蝕液的質量百分比范圍為0.01％-3％；

所述溶解劑相對所述刻蝕液的質量百分比范圍為1％-15％；

所述第二抑制劑相對所述刻蝕液的質量百分比范圍為0.001％-0.1％。

10.一種刻蝕方法，使用如權利要求8或9所述的刻蝕組合液進行刻蝕，其特征在于，包括：

提供一基板；

通過所述刻蝕液對所述基板進行刻蝕；

檢測所述刻蝕液中銅離子的濃度；

當所述銅離子的濃度處于預設濃度范圍時，將所述補給液加入所述刻蝕液，繼續對所述基板進行刻蝕。