[發明專利]基于像素級濾光片的大視場、低畸變高光譜光學系統有效
| 申請號: | 201910341648.8 | 申請日: | 2019-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN109884776B | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發明(設計)人: | 金光;謝運強;劉春雨;劉帥;王天聰 | 申請(專利權)人: | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/06;G02B13/22;G02B1/00 |
| 代理公司: | 長春眾邦菁華知識產權代理有限公司 22214 | 代理人: | 朱紅玲 |
| 地址: | 130033 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 像素 濾光 視場 畸變 光譜 光學系統 | ||
1.基于像素級濾光片的大視場、低畸變新型高光譜光學系統,包括前組光學系統(1)、像素級濾光片(2)、后組光學系統(3)和接收像面(4);其特征是:
目標發出的光束經過前組光學系統(1)成像于中間像面處,中間像面處的中間像經過置于所述中間像面處的像素級濾光片(2)分光后繼續經后組光學系統(3)再次成像于接收像面(4)處,所述接收像面(4)處獲得目標的高光譜圖像信息;
所述中間像面處設置視場光闌(5)和內遮光罩(6);
所述前組光學系統(1)包括依次同軸設置的第一透鏡(1-1)、第二透鏡(1-2)、第三透鏡(1-3)、第四透鏡(1-4)、第五透鏡(1-5)、第六透鏡(1-6)和第七透鏡(1-7);所述第四透鏡(1-4)的前表面設置視場光闌(5);
所述第一透鏡(1-1)、第四透鏡(1-4)和第七透鏡(1-7)為雙凸透鏡,第二透鏡(1-2)和第六透鏡(1-6)為正彎月透鏡,第三透鏡(1-3)和第五透鏡(1-5)為雙凹透鏡;
所述后組光學系統(3)為轉像系統,包括依次同軸設置的第八透鏡(3-1)、第九透鏡(3-2)、第十透鏡(3-3)、第十一透鏡(3-4)、第十二透鏡(3-5)和第十三透鏡(3-6);所述第九透鏡(3-2)、第十一透鏡(3-4)和第十二透鏡(3-5)均為二次曲面透鏡;所述第八透鏡(3-1)、第十透鏡(3-3)和第十三透鏡(3-6)均為球面透鏡。
2.根據權利要求1所述的基于像素級濾光片的大視場、低畸變新型高光譜光學系統,其特征在于:所述前組光學系統(1)為像方遠心系統像方主光線平行于光軸,后組光學系統為物方遠心系統,物方主光線平行于光軸。
3.根據權利要求1所述的基于像素級濾光片的大視場、低畸變新型高光譜光學系統,其特征在于:所述第一透鏡(1-1)、第二透鏡(1-2)和第五透鏡(1-5)均采用冕牌玻璃;
所述第三透鏡(1-3)、第四透鏡(1-4)、第六透鏡(1-6)和第七透鏡(1-7)均采用火石玻璃。
4.根據權利要求1所述的基于像素級濾光片的大視場、低畸變新型高光譜光學系統,其特征在于:置于中間像面處的像素級濾光片(2)的分光單位的排列方式和尺寸與探測器像元的排列方式和尺寸一致。
5.根據權利要求1所述的基于像素級濾光片的大視場、低畸變新型高光譜光學系統,其特征在于:第八透鏡(3-1)和第十三透鏡(3-6)為正彎月透鏡;第九透鏡(3-2)、第十透鏡(3-3)、第十一透鏡(3-4)均為負彎月透鏡;第十二透鏡(3-5)為雙凸透鏡。
6.根據權利要求5所述的基于像素級濾光片的大視場、低畸變新型高光譜光學系統,其特征在于:第十二透鏡(3-5)和第十三透鏡(3-6)采用冕牌玻璃;第八透鏡(3-1)、第九透鏡(3-2)、第十透鏡(3-3)和第十一透鏡(3-4)均為火石玻璃。
7.根據權利要求1所述的基于像素級濾光片的大視場、低畸變新型高光譜光學系統,其特征在于:所述前組光學系統(1)像方數值孔徑和后組光學系統(3)物方數值孔徑相等。
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