[發(fā)明專利]刻蝕槽、輸送刻蝕液的方法以及刻蝕系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910341340.3
• 申請日: 2019-04-26
• 公開（公告）號(hào): CN110060945A
• 公開（公告）日: 2019-07-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧思源;張文福;劉家樺;葉日銓
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 周衡威

本公開涉及一種刻蝕槽，該刻蝕槽包括多個(gè)輸送嘴，多個(gè)輸送嘴均勻地分布在刻蝕槽的底部，并且多個(gè)輸送嘴被配置成并行地將刻蝕液輸送到刻蝕槽中。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，具體來說，涉及一種刻蝕槽、輸送刻蝕液的方法以及刻蝕系統(tǒng)。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體濕法刻蝕工藝中，槽式濕法刻蝕一直占據(jù)很大的比例。槽式濕法刻蝕的工藝發(fā)展至今也越發(fā)成熟和穩(wěn)定。隨著待刻蝕的對(duì)象(例如，硅晶圓)尺寸的加大和特征工藝尺寸的不斷縮小，晶圓上薄膜的均勻性對(duì)產(chǎn)品的良率影響越來越大，濕法刻蝕均勻性也逐漸成為影響良率的一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)。

在槽式濕法刻蝕中，待刻蝕的對(duì)象通常是成批地浸沒在刻蝕槽內(nèi)的刻蝕液中。常規(guī)的刻蝕槽分為內(nèi)槽體和外槽體，其中內(nèi)槽體的底部設(shè)置有一個(gè)進(jìn)液閥門，而外槽體的底部可以設(shè)置有出液閥門。在內(nèi)槽體的進(jìn)液閥門開啟時(shí)，刻蝕液從該進(jìn)液閥門供給到內(nèi)槽體中，隨后在內(nèi)槽體中由下至上流動(dòng)，并從內(nèi)槽體上部溢流到外槽體。外槽體中的刻蝕液可以從上向下地流動(dòng)，然后從出液閥門流出。流出的刻蝕液可以隨后再次被供給到內(nèi)槽體的進(jìn)液閥門，從而實(shí)現(xiàn)刻蝕液的循環(huán)。

由于常規(guī)的刻蝕槽僅設(shè)置一個(gè)進(jìn)液閥門，所以刻蝕槽內(nèi)各處的刻蝕液流是不均勻的。例如，刻蝕液在流經(jīng)待刻蝕的對(duì)象的表面時(shí)流速不均勻，這將降低片內(nèi)刻蝕均勻性。而且，刻蝕液流在刻蝕槽的上部和下部的波動(dòng)性也是不均勻的，這種不均勻的波動(dòng)性容易引起渦流而造成待刻蝕的對(duì)象的晃動(dòng)，使得片間刻蝕均勻性受到影響。此外，刻蝕液流的方向也不均勻和不穩(wěn)定，這會(huì)使污染物在刻蝕槽內(nèi)擴(kuò)散，以至于造成片間交叉污染。

因此，需要提出一種新的技術(shù)來解決上述現(xiàn)有技術(shù)中的一個(gè)或多個(gè)問題。

發(fā)明內(nèi)容

本公開的一個(gè)目的是改善刻蝕槽內(nèi)刻蝕液流的均勻性，從而改善濕法刻蝕均勻性以提高產(chǎn)品的良率。

根據(jù)本公開的第一方面，提供了一種刻蝕槽，該刻蝕槽包括多個(gè)輸送嘴。該多個(gè)輸送嘴均勻地分布在刻蝕槽的底部，并且該多個(gè)輸送嘴被配置成并行地將刻蝕液輸送到刻蝕槽中。

根據(jù)本公開的第二方面，提供了一種輸送刻蝕液的方法，該方法包括：將刻蝕液輸送給多個(gè)輸送嘴；以及通過該多個(gè)輸送嘴將刻蝕液并行地輸送到刻蝕槽中；其中，該多個(gè)輸送嘴均勻地分布在刻蝕槽的底部。

根據(jù)本公開的第三方面，提供了一種刻蝕系統(tǒng)，該刻蝕系統(tǒng)包括：根據(jù)本公開的實(shí)施例的任何一種刻蝕槽；以及刻蝕液循環(huán)處理系統(tǒng)。該刻蝕液循環(huán)處理系統(tǒng)被配置為處理來自刻蝕槽的刻蝕液并將經(jīng)處理的刻蝕液并行地輸送給刻蝕槽的多個(gè)輸送嘴。

根據(jù)本公開的實(shí)施例的至少一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于，刻蝕液的流速能夠保持均勻和穩(wěn)定，并且刻蝕液的流動(dòng)方向能夠保持穩(wěn)定，從而改善流經(jīng)待刻蝕的對(duì)象的表面的刻蝕液的流動(dòng)特性并且不會(huì)破壞對(duì)象表面的圖案。因此，本公開的實(shí)施例能夠改善片內(nèi)刻蝕均勻性和片間刻蝕均勻性，并且能夠有效地防止片間交叉污染。

通過以下參照附圖對(duì)本公開的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本公開的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。

附圖說明

構(gòu)成說明書的一部分的附圖描述了本公開的實(shí)施例，并且連同說明書一起用于解釋本公開的原理。

參照附圖，根據(jù)下面的詳細(xì)描述，可以更加清楚地理解本公開，其中：

圖1示出了常規(guī)的刻蝕槽的示意圖。

圖2示出了根據(jù)本公開的實(shí)施例的刻蝕槽的示意圖。

圖3示出了根據(jù)本公開的實(shí)施例的第一網(wǎng)板的示意圖。

圖4A和圖4B示出了根據(jù)本公開的實(shí)施例的多個(gè)輸送嘴的布置方案。

圖5示出了根據(jù)本公開的實(shí)施例的優(yōu)選的刻蝕槽。

圖6示出了根據(jù)本公開的實(shí)施例的輸送刻蝕液的方法的流程圖。