[發明專利]電磁透鏡組中帶電粒子束的控制方法及系統在審
| 申請號: | 201910339992.3 | 申請日: | 2019-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN111863572A | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發明(設計)人: | 張勁;陳炯;夏世偉 | 申請(專利權)人: | 上海凱世通半導體股份有限公司;上海臨港凱世通半導體有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/141 | 分類號: | H01J37/141;G05B13/04 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務所 31283 | 代理人: | 薛琦;李夢男 |
| 地址: | 201203 上海市浦東新區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電磁透鏡 帶電 粒子束 控制 方法 系統 | ||
1.一種電磁透鏡組中帶電粒子束的控制方法,其特征在于,所述控制方法包括:
獲取多組電磁透鏡組的工作數據和多組粒子束的質量數據;
基于多目標優化模型對多組工作數據和多組質量數據執行迭代優化,得到最優解集;
所述多目標優化模型的決策變量包括:所述工作數據中的至少一個參數和/或所述質量數據中的至少一個參數;
所述多目標優化模型的優化目標包括所述粒子束的運動參數;
根據所述最優解集控制所述電磁透鏡組。
2.如權利要求1所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制方法,其特征在于,基于GBNM算法求解所述多目標優化模型的最優解集。
3.如權利要求1所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制方法,其特征在于,所述電磁透鏡組包括:多組電極和多組電磁鐵線圈;
所述工作數據包括以下參數中的至少一種:
所述電極的電壓、所述電磁鐵線圈的電流、所述電極的位置信息、所述電磁鐵線圈的位置信息。
4.如權利要求1所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制方法,其特征在于,所述質量數據包括以下參數中的至少一種:
所述粒子束的入射能量、所述粒子束的出射能量、所述粒子束的粒子質量、所述粒子束的電荷、所述粒子束的電流和所述粒子束的發散角度。
5.如權利要求1所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制方法,其特征在于,所述運動參數包括以下參數中的至少一種:
預設位置處的所述粒子束的強度;所述粒子束與預設位置之間的距離偏差;所述粒子束的偏轉角度、所述粒子束的發散角度;所述粒子束的寬度。
6.一種電磁透鏡組中帶電粒子束的控制系統,其特征在于,所述控制系統包括:
數據獲取模塊,用于獲取多組電磁透鏡組的工作數據和多組粒子束的質量數據;
計算模塊,用于基于多目標優化模型對多組工作數據和多組質量數據執行迭代優化,得到最優解集;
所述多目標優化模型的決策變量包括:所述工作數據中的至少一個參數和/或所述質量數據中的至少一個參數;
所述多目標優化模型的優化目標包括所述粒子束的運動參數;
控制模塊,用于根據所述最優解集控制所述電磁透鏡組。
7.如權利要求6所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制系統,其特征在于,所述計算模塊基于GBNM算法求解所述多目標優化模型的最優解集。
8.如權利要求6所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制系統,其特征在于,所述電磁透鏡組包括:多組電極和多組電磁鐵線圈;
所述工作數據包括以下參數中的至少一種:
所述電極的電壓、所述電磁鐵線圈的電流、所述電極的位置信息、所述電磁鐵線圈的位置信息。
9.如權利要求6所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制系統,其特征在于,所述質量數據包括以下參數中的至少一種:
所述粒子束的入射能量、所述粒子束的出射能量、所述粒子束的粒子質量、所述粒子束的電荷、所述粒子束的電流和所述粒子束的發散角度。
10.如權利要求6所述的電磁透鏡組中帶電粒子束的控制系統,其特征在于,所述運動參數包括以下參數中的至少一種:
預設位置處的所述粒子束的強度;所述粒子束與預設位置之間的距離偏差;所述粒子束的偏轉角度、所述粒子束的發散角度;所述粒子束的寬度。
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