[發明專利]波面干涉儀及其校正方法

有效

• 申請號: 201910338910.3
• 申請日: 2019-04-25
• 公開（公告）號: CN109974577B
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發明（設計）人: 郭柏均
• 申請（專利權）人: 業成科技（成都）有限公司;業成光電（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司
• 主分類號: G01B9/02
• 分類號: G01B9/02;G01B11/24;G01M11/02
• 代理公司: 成都希盛知識產權代理有限公司 51226
• 代理人: 楊冬梅;張行知

1.一種波面干涉儀的校正方法，其特征在于，包括：

在被測物與光源之間設置一校正透鏡，用于抵消入射光穿過被測物時引起的角度變化量；

在所述校正透鏡上設置一校正記號，將所述校正記號設置在所述校正透鏡遠離所述被測物的表面，或將所述校正記號設置在所述校正透鏡靠近所述被測物的表面；

測量擷取影像中所述校正記號的實際投影長度，將所述實際投影長度與理論投影長度對比，得到差值；

根據所述差值校正所述被測物與所述被測物的投影之間的實際比例；

其中，預設在擷取影像時受到反射光影響的部分影像所在區域的范圍，將該范圍內的區域設為無效區域。

2.根據權利要求1所述的波面干涉儀的校正方法，其特征在于，在所述校正透鏡上設置一校正記號的步驟中，將所述校正記號的中心、校正透鏡的中心與被測物的中心設置在同一直線上。

3.根據權利要求2所述的波面干涉儀的校正方法，其特征在于，在被測物與光源之間設置一校正透鏡的步驟中，使所述校正透鏡遠離所述被測物的一面設置為平面；使所述校正透鏡靠近所述被測物的一面設置為與所述被測物中覆蓋在被測面上的表面平行的曲面。

4.根據權利要求3所述的波面干涉儀的校正方法，其特征在于，還包括：根據所述校正記號的實際長度、所述被測物與所述校正透鏡的距離，以及所述入射光的角度，得到所述校正記號的理論投影長度。

5.根據權利要求1所述的波面干涉儀的校正方法，其特征在于，在所述校正透鏡上設置一校正記號的步驟中，使所述校正記號的投影落在所述無效區域內。

6.根據權利要求1所述的波面干涉儀的校正方法，其特征在于，在所述校正透鏡上設置一校正記號的步驟中，將所述校正記號設置為條狀。

7.一種波面干涉儀，其特征在于，包括：

光源，產生入射光；

校正透鏡，設置在所述光源和被測物之間，用于抵消入射光穿過所述被測物后引起的角度變化量，所述校正透鏡上設置有校正記號，所述校正記號用于校正所述被測物與所述被測物的投影之間的實際比例，所述校正記號設置在所述校正透鏡遠離所述被測物的表面，或所述校正記號設置在所述校正透鏡靠近所述被測物的表面；

其中，預設在擷取影像時受到反射光影響的部分影像所在區域的范圍，將該范圍內的區域設為無效區域。

8.根據權利要求7所述的波面干涉儀，其特征在于，所述校正記號的中心、校正透鏡的中心與被測物的中心設置在同一直線上。