[發(fā)明專利]一種用于CT環(huán)狀偽影校正的體模及校正方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910337060.5 | 申請日： | 2019-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN109965896A | 公開（公告）日： | 2019-07-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 代秋聲;徐如祥;王振方;高飛 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇摩科特醫(yī)療科技有限公司 |
| 主分類號： | A61B6/03 | 分類號： | A61B6/03;G06T11/00 |
| 代理公司： | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人： | 馬明渡;吳雯玨 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 弧形臺階 校正 環(huán)狀偽影 弧形體 弧心 體模 發(fā)明構(gòu)思 厚度落差 外圍區(qū)域 中間區(qū)域 中心層面 裝配狀態(tài) 發(fā)射口 外側(cè)面 疊設(shè) 齊平 側(cè)面 焦點 安置 | ||
1.一種用于CT環(huán)狀偽影校正的體模，其特征在于：包括一組弧形體模或梯形體模；
所述弧形體模包括至少兩個半徑不同的弧形臺階，所有弧形臺階的弧度均相同；在裝配狀態(tài)下，所有弧形臺階依次同軸疊設(shè)，所有弧形臺階靠近弧心的內(nèi)側(cè)面齊平，以使所有半徑不同的弧形臺階遠(yuǎn)離弧心的外側(cè)面形成厚度落差；在工作狀態(tài)下，所述弧形體模安置于X射線源的發(fā)射口，且弧形體模中心層面的弧心與X射線源的焦點重疊；
所述梯形體模包括至少兩個高不同的梯形臺階，在裝配狀態(tài)下，所有梯形臺階依次疊設(shè)，且令所有梯形臺階朝向上底的內(nèi)側(cè)面齊平，以使所有高不同的梯形臺階朝向下底的外側(cè)面依次形成厚度落差；在工作狀態(tài)下，所述梯形體模安置于X射線源的發(fā)射口。
2.一種用于CT環(huán)狀偽影校正的體模，其特征在于：包括一弧形體模或者梯形體模；
所述弧形體模由至少兩層半徑不同的弧形臺階一體連接構(gòu)成，每層弧形臺階的弧度均相同；所述弧形體模中，靠近弧心的內(nèi)側(cè)面為一弧形面，遠(yuǎn)離弧心的外側(cè)面依次形成厚度落差；在工作狀態(tài)下，所述弧形體模安置于X射線源的發(fā)射口，且弧形體模中心層面的弧心與X射線源的焦點重疊；
所述梯形體模由至少兩層高不同的梯形臺階一體連接構(gòu)成，所述梯形體模中，靠近梯形上底的內(nèi)側(cè)面為一平面，靠近下底的外側(cè)面依次形成厚度落差；在工作狀態(tài)下，所述梯形體模安置于X射線源的發(fā)射口。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于CT環(huán)狀偽影校正的體模，其特征在于：所有弧形臺階的半徑由大到小依次遞減，所有梯形臺階的高由大到小依次遞減。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于CT環(huán)狀偽影校正的體模，其特征在于：所述弧形體模或者梯形體模的密度范圍為0.5-1.5g/m3。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于CT環(huán)狀偽影校正的體模，其特征在于：所述弧形體模或者梯形體模的密度范圍為0.8-1.2g/m3。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于CT環(huán)狀偽影校正的體模，其特征在于：所述弧形體模或者梯形體模的密度范圍為0.9-1.1g/m3。
7.一種用于CT環(huán)狀偽影校正的校正方法，其特征在于：包括獲取校正系數(shù)步驟，所述獲取校正系數(shù)步驟按照以下步驟操作：
S1，建立權(quán)利要求1或2所述的弧形體模；
S2，令X射線源不曝光，此時，采集CT探測器各探測單元的本底暗電流Bk，其中，k為CT探測器各探測單元的編號；
S3，令X射線源曝光，并且無成像物體時CT探測器各探測單元的輸出數(shù)據(jù)I0k，其中，k為CT探測器各探測單元的編號；
S4，將所述弧形體模安置于X射線源的發(fā)射口，且X射線源的焦點位于所述弧形體模中所有弧形臺階的弧心所在的所述第一直線上；
S5，沿軸線方向移動所述弧形體模，依次曝光、采集不同厚度的弧形臺階對應(yīng)的CT探測器各探測單元的輸出數(shù)據(jù)Ik，n，其中，k為探測單元的編號，n＝1、2、3……，分別對應(yīng)不同厚度的弧形臺階的區(qū)域；
S6，對采集的曝光數(shù)據(jù)進(jìn)行本底暗電流扣除處理，計算公式如下：
IO′k＝IOk-Bk 式1；
I′k，n＝Ik，n-Bk 式2；
S7，根據(jù)下述式3對無成像物體的曝光數(shù)據(jù)和有成像物體的曝光數(shù)據(jù)進(jìn)行取對數(shù)計算：
S8，采用高次曲線方程(次數(shù)≥2)對不同弧形臺階下的Ak，n數(shù)據(jù)進(jìn)行最小二乘法擬合，獲得探測器各探測單元所對應(yīng)的擬合后數(shù)據(jù)A0k,n；
S9，根據(jù)下述式4計算不同厚度的弧形臺階下的各探測單元的校正系數(shù)ak，n：
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江蘇摩科特醫(yī)療科技有限公司，未經(jīng)江蘇摩科特醫(yī)療科技有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910337060.5/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
