[發明專利]光學防偽元件及其制作方法

有效

• 申請號: 201910336073.0
• 申請日: 2019-04-24
• 公開（公告）號: CN111845148B
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發明（設計）人: 張巍巍;孫凱;朱軍
• 申請（專利權）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: B42D25/45
• 分類號: B42D25/45;B42D25/415;B42D25/30;B42D25/324;B42D25/36
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 肖冰濱;王曉曉

1.一種光學防偽元件，包括：

基材，所述基材具有相互對立的第一表面和第二表面；以及

位于所述基材的所述第一表面上的干涉型反射鍍層，所述干涉型反射鍍層處于所述光學防偽元件的非鏤空區域而不處于鏤空區域，所述干涉型反射鍍層為法布里-珀羅干涉器結構，所述法布里-珀羅干涉器結構中的吸收層與所述基材接觸，且所述吸收層的材料為合金材料，

其中，所述合金材料為至少兩種金屬形成的合金材料，形成所述合金材料的一種金屬為灰色金屬，另一種金屬為易被溶液腐蝕的金屬，使得在制作所述光學防偽元件時，能夠實現沉積在鏤空區域處的干涉型反射鍍層被完全腐蝕以全部鏤空，同時形成的所述光學防偽元件保持較高的色彩飽和度。

2.一種光學防偽元件，包括：

基材，所述基材具有相互對立的第一表面和第二表面；

位于所述基材的所述第一表面上的表面浮雕結構層，所述表面浮雕結構層包括與所述光學防偽元件的鏤空區域對齊的第一區域和與所述光學防偽元件的非鏤空區域對齊的第二區域，所述第一區域包括第一光柵微結構，所述第二區域包括第二光柵微結構和/或平坦結構，其中，所述第一光柵微結構的深寬比大于所述第二光柵微結構的深寬比，和/或所述第一光柵微結構的比體積大于所述第二光柵微結構的比體積；

同形覆蓋于所述第二區域上的干涉型反射鍍層，所述干涉型反射鍍層處于所述光學防偽元件的非鏤空區域而不處于鏤空區域，所述干涉型反射鍍層為法布里-珀羅干涉器結構，所述法布里-珀羅干涉器結構中的吸收層與所述第二區域接觸，且所述吸收層的材料為合金材料，

其中，所述合金材料為至少兩種金屬形成的合金材料，形成所述合金材料的一種金屬為灰色金屬，另一種金屬為易被溶液腐蝕的金屬，使得在制作所述光學防偽元件時，能夠實現沉積在鏤空區域處的干涉型反射鍍層被完全腐蝕以全部鏤空，同時形成的所述光學防偽元件保持較高的色彩飽和度。

3.根據權利要求1或2所述的光學防偽元件，其中，

所述灰色金屬包括以下一者或多者：鉻、鎳、銅、鈷、鈦、釩、鎢、錫、硅、鍺、或其組合；

所述易被溶液腐蝕的金屬包括鋁和/或鐵。

4.根據權利要求1或2所述的光學防偽元件，其中，

所述合金材料為以下一者或多者：鋁/鉻合金、鋁/鎳合金、鋁/硅合金、鐵/鉻、或者鋁/鐵/鉻合金；和/或

所述吸收層的厚度范圍是2nm-30nm。

5.根據權利要求1或2所述的光學防偽元件，其中，

所述法布里-珀羅干涉器結構中的介質層的材料為折射率小于1.8的低折射率材料，或者為折射率大于1.8的高折射率材料，

所述法布里-珀羅干涉器結構中的反射層的材料包括以下中的一者或多者：鋁、銀、錫、鎳、鉻、鉑、銅、金、硅、或其組合。

6.根據權利要求1或2所述的光學防偽元件，其中，所述基材是透明的或半透明的。

7.根據權利要求1或2所述的光學防偽元件，還包括形成于所述干涉型反射鍍層之上的保護層。

8.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其中，

所述第一光柵微結構和/或所述第二光柵微結構的特征尺寸的范圍是100nm至100μm；

所述第二光柵微結構的深寬比小于0.2，和/或所述第二光柵微結構的比體積小于0.2；和/或

所述第一光柵微結構和/或所述第二光柵微結構為以下一者或多者：亞波長光柵、全息光柵、閃耀光柵、球透鏡、或柱透鏡。

9.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其中，還包括：形成于所述基材和所述表面浮雕結構層之間的剝離層；以及覆蓋于所述鏤空區域和/或所述非鏤空區域上的膠層，所述膠層的表面被平整化。