[發明專利]一種用于霧化器的壓電陶瓷振動片親水處理方法在審
| 申請號: | 201910335905.7 | 申請日: | 2019-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN110000065A | 公開(公告)日: | 2019-07-12 |
| 發明(設計)人: | 呂偉桃;王憲;梁宸 | 申請(專利權)人: | 佛山市思博睿科技有限公司 |
| 主分類號: | B05D1/00 | 分類號: | B05D1/00;B05D3/04;B05D3/02 |
| 代理公司: | 佛山市禾才知識產權代理有限公司 44379 | 代理人: | 資凱亮;劉羽波 |
| 地址: | 528051 廣東省佛山市南海區獅山鎮羅村朗沙*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓電陶瓷振動片 納米親水膜 霧化器 親水處理 等離子化學氣相沉積 超聲波霧化 表面液體 減少振動 空氣隔層 表面鍍 表面能 親水性 圓珠狀 成膜 鋪展 概率 | ||
本發明公開了一種用于霧化器的壓電陶瓷振動片親水處理方法,方法包括以下步驟:對用于霧化器的壓電陶瓷振動片通過等離子化學氣相沉積方法在壓電陶瓷振動片的表面鍍納米親水膜,納米親水膜與霧化器中的液體直接接觸。通過在壓電陶瓷振動片表面上鍍納米親水膜,可以提高壓電陶瓷振動片的親水性,提高壓電陶瓷振動片的表面能,提高其表面液體的表面張力,進行親水處理,水在壓電陶瓷振動片表面鋪展,而不會形成圓珠狀,減少振動片表面與水之間形成空氣隔層的概率,抑制氣泡的產生,提高超聲波霧化的效率。通過等離子化學氣相沉積的方法來鍍上納米親水膜,具有成膜質量好的優點。
技術領域
本發明涉及霧化器技術領域,尤其涉及一種用于霧化器的壓電陶瓷振動片親水處理方法。
背景技術
超聲波霧化器利用電子高頻震蕩,通過陶瓷振動片的高頻諧振,將液態水分子結構打散而產生自然飄逸的水霧。在振動過程中,超聲波的頻率伸縮將水噴起,并在瞬間發生空化作用形成云霧,同時,由于液體內局部壓力降低時,液體內部或液固交界面上形成蒸氣或氣體的空穴。
壓電陶瓷振動片表面的玻璃釉層降低了鍍銀層表面液體的表面張力,分子間的束縛力下降,氣泡被“拉住”的力下降,而此時液體內部某點與大氣壓差不變,氣泡容易產生出來。表面氣泡產生后會發生積聚,越來越多,使其表面與液體之間產生一層氣體隔層,超聲波振動過程會產生無效振動,嚴重影響超聲波霧化效率。
發明內容
本發明的目的在于提出一種用于霧化器的壓電陶瓷振動片親水處理方法,具有提高壓電陶瓷振動片親水性能的特點。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
一種用于霧化器的壓電陶瓷振動片親水處理方法,所述方法包括以下步驟:對用于霧化器的壓電陶瓷振動片通過等離子化學氣相沉積方法在壓電陶瓷振動片的表面鍍納米親水膜,所述納米親水膜與霧化器中的液體直接接觸。
進一步的,納米親水膜是由親水材料通過等離子增強化學氣相沉積方法獲得的;
所述親水材料是無氟親水材料,化學通式為:R-Si-(ORX)3;其中,-R為多碳長鏈烷基,碳原子數量3-16個,-RX為-Cl、-CH3、-C2H5其中一種或者多種。
進一步的,等離子化學氣相沉積方法包括以下工藝步驟:
(1)等離子活化處理,將壓電陶瓷振動片置于氣體流中進行活化處理;
(2)親水材料汽化;
(3)通過射頻電源提供功率,設備腔體內等離子氣體載氣與汽化的親水材料進行碰撞反應,使親水材料在壓電陶瓷振動片表面進行附著和沉積形成納米親水膜層;
(4)凈化階段:破真空。
進一步的,步驟(1)中,氣體流量:1000-2500ul/s,真空度保持在0.04-0.2mbar范圍內,活化時間1-5min。活化的時間與氣體流量有關,氣體流量越大,活化時間越短。當氣體流量小于1000ul/s時,反應速率較慢,活化時間太長;當氣體流量大于1700ul/s時,氣體流速過大,容易造成設備腔內氣體不均勻,影響活化效果。
進一步的,步驟(2)中,親水材料在加熱杯中汽化,親水材料滴入加熱杯的流量為0.5-5ul/s,加熱溫度為75-150℃。
進一步的,步驟(3)中,射頻電源提供的功率為脈沖波200-800W或連續波200-800W,設備腔體內溫度控制在40-60℃,真空度保持在0.01-0.2mbar范圍內。
進一步的,步驟(3)中,反應時間為10-60min,形成的納米親水膜層厚度為60-200nm。
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