[發(fā)明專利]無(wú)掩模曝光裝置和方法以及半導(dǎo)體設(shè)備的制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910332630.1
• 申請(qǐng)日: 2019-04-24
• 公開（公告）號(hào): CN110780538A
• 公開（公告）日: 2020-02-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金義錫;樸相玄;張?jiān)讟s
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星電子株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 11105 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 錢大勇

1.一種無(wú)掩模曝光裝置，包括：

光源；

光學(xué)頭，包括光調(diào)制器和光學(xué)系統(tǒng)，并且被配置為反射來(lái)自所述光源的光以將所述光輻射到要曝光的第一基板；

平臺(tái)，被配置為支撐所述第一基板并在第一方向上移動(dòng)所述第一基板，所述第一方向是掃描方向，其中旋轉(zhuǎn)所述第一基板使得所述第一基板的參考線相對(duì)于所述第一方向成第一角度；以及

光學(xué)頭旋轉(zhuǎn)單元，被配置為旋轉(zhuǎn)所述光學(xué)頭，

其中，所述光調(diào)制器包括被配置為反射來(lái)自所述光源的光并允許所述光入射到所述光學(xué)系統(tǒng)的微鏡陣列，其中所述光學(xué)系統(tǒng)通過(guò)將反射光變換為包括多個(gè)行和多個(gè)列的光束點(diǎn)陣列來(lái)將來(lái)自所述光調(diào)制器的所述反射光輻射到所述第一基板，

其中，所述光束點(diǎn)陣列包括光束輻射到所述第一基板的開光點(diǎn)和沒有光束輻射到所述第一基板的閉光點(diǎn)，并且由所述微鏡陣列控制所述開光點(diǎn)和所述閉光點(diǎn)，以及

其中，當(dāng)在實(shí)質(zhì)上垂直于所述參考線的第一行和第n行(其中n是大于或等于2的整數(shù))的方向上在所述第一基板上形成圖案時(shí)，設(shè)置所述第一角度使得由所述光束點(diǎn)陣列在所述第一基板上的、分別對(duì)應(yīng)于所述第一行的圖案和所述第n行的圖案的第一部分和第二部分中累積的照度變化。

2.如權(quán)利要求1所述的無(wú)掩模曝光裝置，其中，在旋轉(zhuǎn)所述光學(xué)頭之前，所述光束點(diǎn)陣列的所述多個(gè)列實(shí)質(zhì)上平行于所述第一方向，并且所述多個(gè)行實(shí)質(zhì)上垂直于所述第一方向，

其中，通過(guò)使用光學(xué)頭旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)所述光學(xué)頭，使得所述多個(gè)列相對(duì)于所述第一方向成第二角度，

其中，所述第一行的圖案和所述第n行的圖案實(shí)質(zhì)上相同，以及

其中，在所述第一部分和所述第二部分中累積的照度隨著所述第一基板以所述第一角度旋轉(zhuǎn)而變化。

3.如權(quán)利要求2所述的無(wú)掩模曝光裝置，所述參考線被布置為與所述第一方向平行，使得所述第一行和所述第n行的方向垂直于所述第一方向，

當(dāng)所述第一行的圖案彼此實(shí)質(zhì)上相同時(shí)，在所述第一部分中累積的照度彼此不同，并且作為所述第一部分中的任何一個(gè)的部分I和作為對(duì)應(yīng)于所述部分I的所述第二部分中的任何一個(gè)的部分II具有實(shí)質(zhì)上相等的累積照度，以及

隨著所述第一基板旋轉(zhuǎn)所述第一角度，當(dāng)所述第一行的圖案彼此實(shí)質(zhì)上相同時(shí)，在所述部分I和所述部分II中累積的照度變化。

4.如權(quán)利要求1所述的無(wú)掩模曝光裝置，還包括：

基板布置單元，被配置為通過(guò)相對(duì)于所述第一方向旋轉(zhuǎn)所述第一基板來(lái)將所述第一基板布置在所述平臺(tái)上；

角度測(cè)量單元，被配置為測(cè)量所述參考線與所述第一方向之間的第二角度；以及

點(diǎn)數(shù)據(jù)生成器，被配置為生成關(guān)于所述光束點(diǎn)陣列的所述開光點(diǎn)和所述閉光點(diǎn)的數(shù)據(jù)。

5.如權(quán)利要求4所述的無(wú)掩模曝光裝置，其中，所述角度測(cè)量單元通過(guò)使用在所述第一基板上形成的對(duì)準(zhǔn)鍵來(lái)測(cè)量所述第二角度。

6.如權(quán)利要求4所述的無(wú)掩模曝光裝置，其中，所述點(diǎn)數(shù)據(jù)生成器包括：

角度計(jì)算器，被配置為計(jì)算所述第一角度；

預(yù)處理數(shù)據(jù)生成器，被配置為基于所述第一角度生成關(guān)于所述開光點(diǎn)和所述閉光點(diǎn)的預(yù)處理數(shù)據(jù)；以及

曝光數(shù)據(jù)生成器，被配置為通過(guò)基于旋轉(zhuǎn)角度誤差值校正所述預(yù)處理數(shù)據(jù)來(lái)生成曝光數(shù)據(jù)，所述旋轉(zhuǎn)角度誤差值是所述第二角度和所述第一角度之間的差。

7.如權(quán)利要求6所述的無(wú)掩模曝光裝置，其中，所述角度計(jì)算器和所述預(yù)處理數(shù)據(jù)生成器當(dāng)在與所述第一基板不同的第二基板上形成圖案時(shí)操作，或者當(dāng)在所述第一基板上形成新圖案時(shí)操作。